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Die Internationale Marke Ultratech/CNT wurde als Wortmarke am 16.11.2017 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 1383811 |
| Länder | 
|
| Basismarke |
Nr. 87113513,
22. Juli 2016
|
| Anmeldedatum | 16. November 2017 |
| Ablaufdatum | 26. Februar 2018 |
Markeninhaber
3050 Zanker Road
San Jose CA 95134
US
San Jose CA 95134
US
Markenvertreter
149 Commonwealth Drive,
Suite 1001
US
Waren und Dienstleistungen
07
Atomic layer deposition machine comprised of a reaction
chamber, precursor lines and a cabinet, all sold as a unit
for performing atomic deposition layering and for use in
applying atomic layer coating on various surfaces, namely,
on gate dielectrics, gate electrodes, metal interconnects,
diffusion barriers, DRAM, multilayer-capacitors, read heads,
antireflection, optical filters, OLED layers, photonic
crystals, transparent conductors, electroluminescence, solar
cells, lasers, integrated optics, MEMS, etch resistance,
hydrophobic/antistiction, blade edges, molds and dies, solid
lubricants, anti-corrosion, inside pores, nanotubes, around
particles AFM tips, chemicals, catalysis, fuel cells, roll
to roll, internal tube liners, nano-glue, biocompatible
materials, medical devices, medical implantable devices,
timed-drug released materials, coatings of anti-bacterial
agents onto surfaces, anti-clotting coatings, and magnetics
or for use as combined with a semiconductor wafer processing
machine as a dual purpose unit
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 10. September 2018 | 2018/40 Gaz | US | RAW: Total Ceasing Effect |
| 30. August 2018 | 2018/36 Gaz | JP | Ablehnung |
| 16. August 2018 | 2018/37 Gaz | SG | Ablehnung |
| 06. Juni 2018 | 2018/23 Gaz | EM | Ablehnung |
| 16. November 2017 | 2017/51 Gaz | US | Eintragung |
ID: 141383811