LEAD

WIPO WIPO 2015

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Die Internationale Marke LEAD wurde als Wortmarke am 24.06.2015 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

Markendetails Letztes Update: 18. November 2019

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 1265787
Länder Europäische Gemeinschaft Indien Japan Südkorea Vereinigte Staaten von Amerika (USA) China
Basismarke DE Nr. 30 2015 102 945, 28. Mai 2015
Anmeldedatum 24. Juni 2015
Ablaufdatum 24. Juni 2025

Markeninhaber

Siemensstrasse 100
63755 Alzenau
DE

Markenvertreter

Josephspitalstr. 15 80331 München DE

Waren und Dienstleistungen

07 Coating machines and installations consisting thereof, particularly sputter machines and installations consisting thereof; magnetron sputter machines and apparatuses consisting thereof, particularly magnetron sputtering machines utilizing a tiltable magnetron and parts thereof; low energy sputtering machines; machines, apparatus and instruments for manufacturing displays, batteries and touch panels; machines, apparatus and instruments for use in the manufacture of thin film transistors; machines, apparatus and instruments for use in the manufacture of liquid crystal displays; thin film processing equipment, thin film processing vacuum equipment, deposition processing equipment, all of the before-mentioned machines and installations adapted to coat all kinds of substrates of synthetic and/or mineral materials, particularly, mineral glasses, with transparent and/or opaque and/or wear resistant and/or optical and/or conductive and/or non-conductive coatings, and/or coatings having an electrical or electronic functionality, and/or transparent conductive coatings, such as indium tin oxide coatings
09 Semiconductors; computer programs for use with glass substrate processing equipment and components thereof, namely, physical vapor deposition reactors, particularly magnetron sputtering machines, supporting frames therefore and components thereof; computer programs for use with displays, batteries and touch panels; computer programs for use with sputter cathodes and rotatable sputter cathodes, particularly magnetron sputtering machines utilizing a tiltable magnetron and parts thereof
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
29. Oktober 2019 2019/46 Gaz IN RAW: Rule 18ter(2)(i) GP following a provisional refusal
21. Februar 2019 2019/11 Gaz CN RAW: Rule 18ter(4) protected goods and services
14. Dezember 2016 2016/51 Gaz US RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
08. Dezember 2016 2016/51 Gaz KR RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
17. Oktober 2016 2016/43 Gaz IN Ablehnung
10. August 2016 2016/35 Gaz JP RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
28. Juli 2016 2016/36 Gaz CN Ablehnung
26. Juli 2016 2016/32 Gaz EM Ablehnung
26. Februar 2016 2016/10 Gaz KR Ablehnung
25. Februar 2016 2016/9 Gaz JP Ablehnung
08. Oktober 2015 2015/41 Gaz US Ablehnung
24. Juni 2015 2015/37 Gaz DE Eintragung

ID: 141265787