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Die Internationale Marke EXTERION wurde als Wortmarke am 16.03.2009 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 1003112 |
| Länder | 
|
| Basismarke |
Nr. 2008-76069,
17. September 2008
|
| Anmeldedatum | 16. März 2009 |
| Ablaufdatum | 16. März 2029 |
Markeninhaber
4-4-26 Sakuragawa,
Naniwa-ku,
JP
Naniwa-ku,
JP
Markenvertreter
Iwata Tokyu Building, 8th Floor,
2-8, Bakuromachi 3-Chome,
JP
Waren und Dienstleistungen
01
Chemicals
03
Polishing pads; abrasive paper (sand paper); abrasive cloth;
abrasive sand; polishing paper; polishing cloth; polishing
preparations; semiconductor polishing slurries; polishing
slurries
07
Polishing machines and apparatus for glass; polishing pads
for glass substrate; polishing machines and apparatus for
glass substrate; parts and accessories of polishing machines
and apparatus for glass substrate; polishing pads for
semiconductor wafer; polishing machines and systems for
semiconductor wafer surface; parts and accessories of
polishing machines and systems for semiconductor wafer
surface; semiconductor manufacturing machines and systems
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 16. März 2019 | 2019/12 Gaz | Verlängerung | |
| 10. Januar 2017 | 2017/13 Gaz | US | RAW: Partial Invalidation |
| 09. November 2010 | 2013/4 Gaz | KR | RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal |
| 27. Mai 2010 | 2013/3 Gaz | US | RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal |
| 11. Mai 2010 | 2010/19 Gaz | EM | Ablehnung |
| 06. April 2010 | 2010/18 Gaz | KR | Ablehnung |
| 28. September 2009 | 2009/40 Gaz | SG | Ablehnung |
| 29. Juni 2009 | 2009/28 Gaz | US | Ablehnung |
| 16. März 2009 | 2009/24 Gaz | JP | Eintragung |
ID: 141003112