ASYNTIS

USPTO USPTO 2003 CANCELLED - SECTION 8

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Die US-Marke ASYNTIS wurde als Wortmarke am 07.05.2003 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 08.03.2005 im Markenregister eingetragen. Der aktuelle Status der Marke ist "CANCELLED - SECTION 8".

Markendetails

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 78246592
Registernummer 2930562
Anmeldedatum 07. Mai 2003
Veröffentlichungsdatum 14. Dezember 2004
Eintragungsdatum 08. März 2005

Markeninhaber

Im Westpark 10-12
35435 Wettenberg
DE

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

7 Machines and machine tools for plasma treatment of silicon articles, namely, semiconductor wafer processing machines, semiconductor manufacturing machines, semiconductor substrate manufacturing machines; semiconductor substrate etching machines; grinding machines for grinding semiconductors, in particular for back grinding wafers, in particular silicon wafers; machines for transport and storage of silicon discs, namely grippers, wands, tweezers, chucks, robots, robot arms, lifts and cassettes; plasma etching machines; machines for processing gas plasma, gas plasma generator
9 Data processors; computer hardware and software for controlling plasma treatment equipment; apparatus and instruments for conducting, switching, transforming, accumulating, regulating and/or controlling electric current for operating plasma treatment equipment, namely, electrical conductors, electrical switches, electrical transformers, electric accumulators, voltage regulators for electric power
42 Services in the field of science and technology as well as corresponding research, development and designer services, namely, research and consulting in the field of plasma treatment of articles; industry analysis and research services, namely, providing technical, engineering, scientific and computer consultation services in the field of semiconductors; engineering; planning, leading and surveillance of projects, namely, conducting technical research, design and product development projects in the field of plasma technology; designing equipment and system controls for treatment and manufacture of silicon articles; adaptation and development of operating parameters for the field of plasma treatment equipment
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ID: 1378246592