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Die US-Marke C P-LOK wurde als Wortmarke am 29.05.2007 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet. Der aktuelle Status der Marke ist "ABANDONED - NO STATEMENT OF USE FILED".
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 77192004 |
| Anmeldedatum | 29. Mai 2007 |
| Veröffentlichungsdatum | 20. November 2007 |
Markeninhaber
8555 RIVER PARKWAY
85284 TEMPE
US
85284 TEMPE
US
Markenvertreter
Waren und Dienstleistungen
1
Chemicals for use in the manufacture of low dielectric insulating film for use in semiconductors and integrated circuits; chemicals in the nature of porogens, namely, decomposing chemicals for forming pores in low dielectric insulating film; post chemical mechanical planarization (CMP) cleaning chemical preparations for removing slurries and polishing debris
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ID: 1377192004