E-MASK AND DESIGN Logo (USPTO, 09.05.2001)
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Die US-Marke E-MASK AND DESIGN wurde als Bildmarke am 09.05.2001 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet. Der aktuelle Status der Marke ist "ABANDONED-FAILURE TO RESPOND OR LATE RESPONSE".
| Markenform | Bildmarke |
| Aktenzeichen | 76254586 |
| Anmeldedatum | 09. Mai 2001 |
Markeninhaber
Science-Based Industrial Park
Hsin Chu
TW
Hsin Chu
TW
Markenvertreter
Waren und Dienstleistungen
9
PHOTOMASKS USED TO MANUFACTURE SEMICONDUCTORS AND INTEGRATED CIRCUITS
40
CUSTOMER MANUFACTURING OF PHOTOMASKS, CUSTOM ASSEMBLING OF PHOTOMASKS FOR OTHERS
42
TEST OF PHOTOMASKS FOR OTHERS; DESIGNING OF PHOTOMASKS
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ID: 1376254586