made in centrotherm photovoltaics Logo (DPMA, 04.04.2011)
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Die Deutsche Marke made in centrotherm photovoltaics wurde als Wort-Bildmarke am 04.04.2011 beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 22.06.2011 im Markenregister eingetragen.
Der aktuelle Status der Marke ist "Marke gelöscht".
Logodesign (Wiener Klassifikation)
#Rot, rosa, orange #Buchstabenreihen in verschiedenen Dimensionen #Weiß, grau, silber #Würfel
| Markenform | Wort-Bildmarke |
| Aktenzeichen | 3020110192014 |
| Registernummer | 302011019201 |
| Anmeldedatum | 04. April 2011 |
| Veröffentlichungsdatum | 22. Juli 2011 |
| Eintragungsdatum | 22. Juni 2011 |
| Beginn Widerspruchsfrist | 22. Juli 2011 |
| Ende Widerspruchsfrist | 24. Oktober 2011 |
| Ablaufdatum | 30. April 2021 |
Markeninhaber
89143 Blaubeuren
DE
Markenvertreter
70469 Stuttgart
DE
Waren und Dienstleistungen
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Maschinen, Geräte und Instrumente sowie daraus bestehende Anlagen für die Behandlung und/oder Herstellung von Halbleitern, Silizium, Substraten, Ingots, Solarzellen, Siliziumscheiben, Wafern, Verbindungshalbleitern, Halbleiterbauelementen, Leistungshalbleitern; Apparate und Reaktoren (Beschichtungsmaschinen) für die Gasphasenabscheidung auf Oberflächen (CVD, PECVD = Chemical Vapour Deposition Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition); Rohrreaktoren (Beschichtungsmaschinen) und Durchlauf-Anlagen für die Plasmabeschichtung von Solarwafern und Halbleiterwafern; Apparate, Geräte und Anlagen für die Versorgung, Aufbereitung, Reinigung und Rückgewinnung von Flüssigkeiten und Gasen; Anlagen für die Entsorgung von Gasen; Maschinen, Geräte und Instrumente sowie daraus bestehende Anlagen für die Handhabung und zum Transport von Halbleitern, Substrate, Wafern und Solarzellen; Rohranlagen für die Beschichtung von Halbleiter- und Solarwafern mit Antireflex- und Passivierungsschichten; Rohranlagen für die Beschichtung von Halbleiter- und Solarwafern mit Antireflex- und Passivierungssichten; Anlagen für die nasschemische Behandlung von Solarwafern, insbesondere das Ätzen, Strukturieren und Reinigen der Waferoberfläche in Säuren, Laugen und Oxidationsmitteln; Anlagen für die lokale Materialbehandlung, den Dotierstoffeintrag und den Materialabtrag auf Solarwafern mit Hilfe von Lasern; Anlagen für den Auftrag von Metallisierung und elektrischen Kontakten auf Wafern und Solarzellen mit Hilfe von Plasmaspritzen
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Vermessungs-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontrollapparate und -instrumente, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Halbleiter und Verbindungshalbleiter; Photovoltaik-/Solarmodule, Photovoltaik-/Solarzellen
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Systeme bestehend aus den Komponenten Diffusionsöfen, Durchlauföfen, Beschichtungsöfen, Einbrennöfen, Vakuumöfen; Vakuumlötöfen, Durchlauföfen für die Trocknung von Siebdruck-Metallisierung auf Substraten und Solarzellen; Anlagen für thermische Vorbehandlungsprozesse oder Fertigungsprozesse, wie Diffusionsöfen, Durchlauföfen, Beschichtungsöfen, Einbrennöfen, Vakuumöfen; Vakuumlötöfen, Durchlauföfen für die Trocknung von Siebdruck-Metallisierung auf Substraten und Solarzellen; Durchlauföfen für das Einbrennen von Siebdruck-Metallisierung auf Substraten und Solarzellen; Anlagen für die lokale Wärmebehandlung auf Solarwafern mit Hilfe von Lasern; Rohröfen für die Phosphor-Diffusion auf Halbleiter- und Solarwafern; Rohröfen für die Oberflächenoxidation von Silizium- und Solarwafern
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 07. Januar 2022 | 202200013111 | 5f | Löschung, Marke geloescht |
| 12. April 2017 | 201700115567 | 8b | Übertragung / Adressänderung, Abgeschlossen |
| 02. September 2013 | 201300280728 | 8b | Übertragung / Adressänderung, Abgeschlossen |
| 21. November 2011 | 201100211346 | 2a | Widerspruchszeitraum, Marke ohne Widerspruch eingetragen |
| 22. Juni 2011 | 201100127394 | 1aaa | Eintragung, Marke eingetragen |
ID: 103020110192014