made in centrotherm photovoltaics Logo (DPMA, 04/04/2011)
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The German trademark made in centrotherm photovoltaics was filed as Word and figurative mark on 04/04/2011 at the German Patent and Trademark Office.
It was registered as a trademark on 06/22/2011.
The current status of the mark is "Trademark cancelled".
Logodesign (Wiener Klassifikation)
#Red, pink, orange #Series of letters in different dimensions #White, grey, silver #Cubes
| Trademark form | Word and figurative mark |
| File reference | 3020110192014 |
| Register number | 302011019201 |
| Application date | April 4, 2011 |
| Publication date | July 22, 2011 |
| Entry date | June 22, 2011 |
| Start of opposition period | July 22, 2011 |
| End of the opposition period | October 24, 2011 |
| Expiration date | April 30, 2021 |
Trademark owner
89143 Blaubeuren
DE
Trademark representatives
70469 Stuttgart
DE
goods and services
7
Maschinen, Geräte und Instrumente sowie daraus bestehende Anlagen für die Behandlung und/oder Herstellung von Halbleitern, Silizium, Substraten, Ingots, Solarzellen, Siliziumscheiben, Wafern, Verbindungshalbleitern, Halbleiterbauelementen, Leistungshalbleitern; Apparate und Reaktoren (Beschichtungsmaschinen) für die Gasphasenabscheidung auf Oberflächen (CVD, PECVD = Chemical Vapour Deposition Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition); Rohrreaktoren (Beschichtungsmaschinen) und Durchlauf-Anlagen für die Plasmabeschichtung von Solarwafern und Halbleiterwafern; Apparate, Geräte und Anlagen für die Versorgung, Aufbereitung, Reinigung und Rückgewinnung von Flüssigkeiten und Gasen; Anlagen für die Entsorgung von Gasen; Maschinen, Geräte und Instrumente sowie daraus bestehende Anlagen für die Handhabung und zum Transport von Halbleitern, Substrate, Wafern und Solarzellen; Rohranlagen für die Beschichtung von Halbleiter- und Solarwafern mit Antireflex- und Passivierungsschichten; Rohranlagen für die Beschichtung von Halbleiter- und Solarwafern mit Antireflex- und Passivierungssichten; Anlagen für die nasschemische Behandlung von Solarwafern, insbesondere das Ätzen, Strukturieren und Reinigen der Waferoberfläche in Säuren, Laugen und Oxidationsmitteln; Anlagen für die lokale Materialbehandlung, den Dotierstoffeintrag und den Materialabtrag auf Solarwafern mit Hilfe von Lasern; Anlagen für den Auftrag von Metallisierung und elektrischen Kontakten auf Wafern und Solarzellen mit Hilfe von Plasmaspritzen
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Vermessungs-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontrollapparate und -instrumente, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Halbleiter und Verbindungshalbleiter; Photovoltaik-/Solarmodule, Photovoltaik-/Solarzellen
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Systeme bestehend aus den Komponenten Diffusionsöfen, Durchlauföfen, Beschichtungsöfen, Einbrennöfen, Vakuumöfen; Vakuumlötöfen, Durchlauföfen für die Trocknung von Siebdruck-Metallisierung auf Substraten und Solarzellen; Anlagen für thermische Vorbehandlungsprozesse oder Fertigungsprozesse, wie Diffusionsöfen, Durchlauföfen, Beschichtungsöfen, Einbrennöfen, Vakuumöfen; Vakuumlötöfen, Durchlauföfen für die Trocknung von Siebdruck-Metallisierung auf Substraten und Solarzellen; Durchlauföfen für das Einbrennen von Siebdruck-Metallisierung auf Substraten und Solarzellen; Anlagen für die lokale Wärmebehandlung auf Solarwafern mit Hilfe von Lasern; Rohröfen für die Phosphor-Diffusion auf Halbleiter- und Solarwafern; Rohröfen für die Oberflächenoxidation von Silizium- und Solarwafern
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Trademark history
| Date | Document number | Area | Entry |
|---|---|---|---|
| January 7, 2022 | 202200013111 | 5f | Deletion, Marke geloescht |
| April 12, 2017 | 201700115567 | 8b | Transfer / Change of address, Abgeschlossen |
| September 2, 2013 | 201300280728 | 8b | Transfer / Change of address, Abgeschlossen |
| November 21, 2011 | 201100211346 | 2a | Opposition period, Marke ohne Widerspruch eingetragen |
| June 22, 2011 | 201100127394 | 1aaa | Registration, Marke eingetragen |
ID: 103020110192014