Plasma Wafer

WIPO WIPO 2008

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Die Internationale Marke Plasma Wafer wurde als Wortmarke am 30.01.2008 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

Markendetails Letztes Update: 14. August 2018

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 953664
Länder China Deutschland Frankreich Südkorea Vereinigte Staaten von Amerika (USA)
Basismarke JP Nr. 2007-101659, 28. September 2007
Anmeldedatum 30. Januar 2008
Ablaufdatum 30. Januar 2018

Markeninhaber

1-2-1 Shibaura, Minato-ku,
Tokyo 105-8634
JP

Markenvertreter

Gran Tokyo South Tower, 1-9-2, Marunouchi, JP

Waren und Dienstleistungen

09 Wafers for solar cells; semiconductor wafers; semiconductor silicon wafers; single-crystal silicon wafers; ingots of semiconductor silicon; single-crystal silicon for integrated circuits
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
11. August 2018 2018/32 Gaz Löschung
14. Mai 2010 2010/24 Gaz US Ablehnung
19. Januar 2010 2010/4 Gaz DE RAW: Rule 18ter(2)(i) GP following a provisional refusal
24. März 2009 2009/14 Gaz KR Entscheidung zu Widerspruch
27. Januar 2009 2009/7 Gaz CN Ablehnung
20. November 2008 2008/50 Gaz KR Ablehnung
17. September 2008 2008/40 Gaz DE Ablehnung
21. Mai 2008 2008/21 Gaz US Ablehnung
30. Januar 2008 2008/9 Gaz JP Eintragung

ID: 14953664