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Die Internationale Marke LL BHF wurde als Wortmarke am 22.02.2007 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 926203 |
| Registernummer | 5019388 |
| Länder | 
|
| Basismarke |
Nr. 5019388,
19. Januar 2007
|
| Anmeldedatum | 22. Februar 2007 |
| Ablaufdatum | 22. Februar 2027 |
Markeninhaber
4-1-1 Fushimi-machi,
Chuo-ku, Osaka City
JP
Chuo-ku, Osaka City
JP
Markenvertreter
First Shin-Osaka MT Bldg.
2nd Floor,
JP
Waren und Dienstleistungen
01
Chemicals used in industry; chemicals used in manufacturing
structures of semiconductors, integrated circuits,
microscale and nano-scale and for acceleration of etching
process and for forming patterns on a substrate; chemicals
used in manufacturing semiconductors; chemical cleaners,
namely, etching agents for rinsing semiconductors; chemicals
to be used for forming patterns on the substrates of flat
panel display such as liquid crystal and electroluminescent
(EL); chemicals used for manufacturing of flat panel
display; chemical cleanser, namely, etching agent to be used
for manufacturing of flat panel display
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 21. Dezember 2016 | 2017/8 Gaz | Verlängerung | |
| 28. Oktober 2015 | 2015/45 Gaz | US | RAW: Total Invalidation |
| 03. November 2008 | 2008/47 Gaz | SG | RAW: Final Reversing Refusal |
| 10. Oktober 2008 | 2008/43 Gaz | US | RAW: Final Reversing Refusal |
| 23. September 2008 | 2008/49 Gaz | GB | RAW: Protection Granted |
| 03. Juni 2008 | 2008/26 Gaz | KR | RAW: Protection Granted |
| 13. August 2007 | 2007/34 Gaz | SG | Ablehnung |
| 26. Juli 2007 | 2007/31 Gaz | US | Ablehnung |
| 22. Februar 2007 | 2007/26 Gaz | JP | Eintragung |
| Teilweise Löschung |
ID: 14926203