LAL

WIPO WIPO 2006

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Die Internationale Marke LAL wurde als Wortmarke am 10.04.2006 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

Markendetails Letztes Update: 13. September 2018

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 904060
Registernummer 4927572
Länder China Deutschland Frankreich Großbritannien Italien Südkorea Singapur Vereinigte Staaten von Amerika (USA)
Basismarke JP Nr. 4927572, 10. Februar 2006
Anmeldedatum 10. April 2006
Ablaufdatum 10. April 2026

Markeninhaber

4-1-1 Fushimi-machi,
Chuo-ku, Osaka City
JP

Markenvertreter

First Shin-Osaka MT Bldg. 2nd Floor, JP

Waren und Dienstleistungen

01 Chemicals used in industry; chemicals used in manufacturing structures of semiconductors, integrated circuits, microscales and nano-scales and for acceleration of etching process and for forming patterns on a substrate; chemicals used in manufacturing semiconductors; chemical cleaners, namely, etching agents for rinsing semiconductors; chemicals to be used for forming patterns on the substrates of flat panel display such as liquid crystal and electroluminescent (EL); chemicals used for manufacturing of flat panel display; chemical cleanser, namely, etching agent to be used for manufacturing of flat panel display
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
25. Februar 2016 2016/23 Gaz Verlängerung
20. April 2009 2012/51 Gaz GB Entscheidung zu Widerspruch
14. Juli 2008 2012/49 Gaz US Entscheidung zu Widerspruch
29. Januar 2008 2008/7 Gaz DE RAW: Final Reversing Refusal
04. Januar 2008 2008/5 Gaz KR RAW: Protection Granted
07. September 2007 2007/37 Gaz DE Ablehnung
09. Juli 2007 2007/33 Gaz SG RAW: Protection Granted
22. Januar 2007 2007/5 Gaz GB Ablehnung
29. Dezember 2006 2007/1 Gaz US Ablehnung
10. April 2006 2006/47 Gaz JP Eintragung

ID: 14904060