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Die Internationale Marke BASIC wurde als Wortmarke am 21.07.2022 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 1692948 |
| Registernummer | 5636965 |
| Länder | 
|
| Basismarke |
Nr. 5636965,
13. Dezember 2013
|
| Anmeldedatum | 21. Juli 2022 |
| Ablaufdatum | 21. Juli 2032 |
Markeninhaber
2-10-1 Shin-yokohama,
Kohoku-ku,
JP
Kohoku-ku,
JP
Markenvertreter
HIBIKI IP Law Firm,
Asahi Bldg. 5th Floor,
JP
Waren und Dienstleistungen
07
Defect repair machines for photomasks for semiconductors;
defect repair machines for reticles for semiconductors;
foreign matter removal machines for photomasks for
semiconductors; foreign matter removal machines for reticles
for semiconductors
09
Semiconductor photomask inspection apparatus; semiconductor
photomask pattern measuring apparatus; semiconductor reticle
inspection apparatus; semiconductor reticle pattern
measuring apparatus
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 26. Juli 2023 | 2023/30 Gaz | EM | Ablehnung |
| 20. Juni 2023 | 2023/25 Gaz | US | Ablehnung |
| 30. November 2022 | 2022/49 Gaz | EM | Ablehnung |
| 21. Juli 2022 | 2022/42 Gaz | JP | Eintragung |
ID: 141692948