centrotherm

WIPO WIPO 2014

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Die Internationale Marke centrotherm wurde als Wortmarke am 27.01.2014 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

Markendetails Letztes Update: 27. Juli 2022

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 1205425
Registernummer 302013044959.2/40
Länder Australien Europäische Gemeinschaft Indien Japan Südkorea Norwegen Philippinen Singapur Vereinigte Staaten von Amerika (USA) Schweiz China Russland
Basismarke DE Nr. 30 2013 044 959.2/40, 19. Dezember 2013
Anmeldedatum 27. Januar 2014
Ablaufdatum 27. Januar 2024

Markeninhaber

Württemberger Straße 31
89143 Blaubeuren
DE

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

07 Machines for processing of semiconductors and solar cells; machines for thermal processing of semiconductors and processing under vacuum; machines for etching of semiconductor surfaces; machines for deposition or coating of semiconductor surfaces, under vacuum (so-called CVD processes) or atmospherically or under plasma effect; machines for conveying (atmospherically or sub-atmospherically or under predefined gas atmosphere); machines for thermal processing of surfaces and objects, namely radiation-based rapid heating systems consisting of machines and plasma-based machines and the combination thereof; machines for atomic layer deposition (ALD); exhaust gas recycling machines
11 Enamelling furnaces; vacuum furnaces; machines for cleaning of gases and exhaust gases; diffusion furnaces
37 Construction, repair, installation and maintenance work, namely in respect of machines and machine tools and their components, overall for the production and processing respectively of solar cells (turnkey solutions) and raw materials therefor; services for assembly of semiconductor elements, both atmospheric and sub-atmospheric
40 Service for material coating; analysis and material modification and for processing of surfaces, in particular semiconductor surfaces
42 Services of engineers; advice and analysis for thermal, plasma or chemical treatment under controlled gas atmosphere, atmospherically or sub-atmospherically for surfaces in general or for specific semiconductor surfaces; technical project planning; technical planning of factories for the production of solar cells including technology selection; technical planning of factory layouts, factory configurations and production lines
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
03. August 2018 2018/32 Gaz PH RAW: Total Invalidation
03. November 2016 2017/23 Gaz SG RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
21. September 2015 2015/39 Gaz IN Ablehnung
22. Mai 2015 2015/22 Gaz RU Ablehnung
12. Mai 2015 2015/24 Gaz CH Ablehnung
27. April 2015 2015/26 Gaz KR RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
14. April 2015 2015/16 Gaz EM Ablehnung
09. April 2015 2015/15 Gaz JP RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
09. April 2015 2015/15 Gaz US RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
26. Januar 2015 2015/5 Gaz CN Ablehnung
23. Januar 2015 2015/5 Gaz NO Ablehnung
15. Januar 2015 2015/3 Gaz PH Ablehnung
10. Dezember 2014 2014/50 Gaz AU RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
27. November 2014 2014/48 Gaz JP Ablehnung
12. November 2014 2014/46 Gaz KR Ablehnung
08. Oktober 2014 2014/43 Gaz SG Ablehnung
07. August 2014 2014/32 Gaz AU Ablehnung
26. Juni 2014 2014/26 Gaz US Ablehnung
27. Januar 2014 2014/22 Gaz DE Eintragung

ID: 141205425