soulbrain Logo (WIPO, 26.04.2011)
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Die Internationale Marke soulbrain wurde als Bildmarke am 26.04.2011 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.
Logodesign (Wiener Klassifikation)
#Briefe, die eine besondere Form des Schreibens darstellen #Farben #Überschneidende Buchstaben #Zwei vorherrschende Farben
| Markenform | Bildmarke |
| Aktenzeichen | 1084033 |
| Länder | 
|
| Basismarke |
Nr. 4020110018997,
11. April 2011
|
| Anmeldedatum | 26. April 2011 |
| Ablaufdatum | 26. April 2031 |
Markeninhaber
34, Pangyo-Ro
255 Beon-gil Bundang-Gu,
KR
255 Beon-gil Bundang-Gu,
KR
Markenvertreter
Deawangpangyo-ro 670,
A-302 (Sampyung-dong, U Space 2),
KR
Waren und Dienstleistungen
01
Caustic alkali; getters [chemically active substances];
surface-active chemical agents; caustic soda for industrial
purposes; dioxide of hydrogen; glycerine for industrial
purposes; chemical preparations for industrial or scientific
purposes; caustics for industrial purposes; industrial
chemicals; salts for industrial purposes; acetates
[chemicals] for industrial purposes; carbon black for
industrial purposes; hydrogen peroxide; perchlorates;
silicon; sodium salts [chemical preparations]; acid proof
chemical compositions; potassium dioxalate; anhydrides;
antifreezing agents; corrosive preparations; fluorine;
fluorspar compounds; hydrofluoric acid; borax; borates;
sorrel salt; Lithia [lithium oxide]; chromium oxide;
salicylic acid; hydrates; aluminium hydrate; calcium
hydroxides hydrogen; salts of alkaline metals; alkalies;
alkaline-earth metals; alcohol; ethyl alcohol; ammonium
salts; chemical preparations, except pigments, for the
manufacture of enamel; spirits of salt; hydrochlorates;
chlorides; sal ammoniac; oxalic acid; iodic acid;
organo-metallic compounds; organic acid; flocculants; ion
exchangers [chemical preparations]; phosphoric acid;
automobile body fillers; additives, chemical, to motor fuel;
battery anti-sulphurizing agents; detergents for use in
manufacturing processes; nitric acid; nitrates; hypochlorite
of soda; iron salts; acetates [chemicals]; calcium salts;
chemical reagents, other than for medical or veterinary
purposes; bromine for chemical purposes; sulphuric acid;
copper sulphate [vitriol]; etchant for semiconductor
manufacturing processes; etchant for LCD manufacturing
processes; etchant for TFT-LCD manufacturing processes;
etchant for organic EL; thin films for semiconductor
manufacturing; materials for inter layer dielectric;
materials for diffusion barrier; materials for capacitor
dielectric; thin films; nitride thin films; epi-silicon thin
films; ionic diffusion materials; abrasives for
semiconductor manufacturing processes; electrolytes
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 13. September 2022 | 2022/38 Gaz | MY | Ablehnung |
| 03. Juli 2021 | 2021/27 Gaz | SE | Ablehnung |
| 26. April 2021 | 2021/17 Gaz | Verlängerung | |
| 19. April 2021 | 2021/16 Gaz | HU | Ablehnung |
| 23. März 2021 | 2021/12 Gaz | FR | Ablehnung |
| 02. Februar 2021 | 2021/5 Gaz | PL | Ablehnung |
| 01. Februar 2021 | 2021/5 Gaz | DE | Ablehnung |
| 29. Dezember 2020 | 2021/2 Gaz | Korrektur | |
| 24. August 2020 | 2020/37 Gaz | Korrektur | |
| 24. Juni 2019 | 2019/41 Gaz | US | RAW: Partial Invalidation |
| 30. September 2013 | 2013/43 Gaz | JP | RAW: Rule 18ter(2)(i) GP following a provisional refusal |
| 06. Mai 2013 | 2013/20 Gaz | RAW: Limitation | |
| 06. Februar 2013 | 2013/8 Gaz | US | RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal |
| 18. Dezember 2012 | 2013/35 Gaz | KR | RAW: Partial Ceasing Effect |
| 14. Mai 2012 | 2012/20 Gaz | CN | Ablehnung |
| 09. Februar 2012 | 2012/6 Gaz | JP | Ablehnung |
| 17. August 2011 | 2011/33 Gaz | US | Ablehnung |
| 26. April 2011 | 2011/29 Gaz | KR | Eintragung |
ID: 141084033