USPTOSchützen Sie diese Marke vor Nachahmern!
Mit unserer Markenüberwachung werden Sie automatisch per E-Mail über Nachahmer und Trittbrettfahrer benachrichtigt.
Die US-Marke CLEAN W wurde als Wortmarke am 13.01.2003 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 14.03.2006 im Markenregister eingetragen.
Der aktuelle Status der Marke ist "CANCELLED - SECTION 8".
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 76481968 |
| Registernummer | 3068618 |
| Anmeldedatum | 13. Januar 2003 |
| Veröffentlichungsdatum | 16. März 2004 |
| Eintragungsdatum | 14. März 2006 |
Markeninhaber
3050 Bowers Avenue
95054 Santa Clara
US
95054 Santa Clara
US
Markenvertreter
Waren und Dienstleistungen
7
Semiconductor wafer processing machines and components, namely, epitaxial reactors, chemical vapor deposition reactors, physical vapor deposition reactors, plasma etchers, ion implanters, and chemical mechanical polishers; all for the processing and production of semiconductor substrates, thin films, silicon chips and silicon wafers
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
ID: 1376481968