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Geräte zum Platzieren auf Halbleiter-Wafern; Geräte zum Durchführen von epitaktischem Wachstum auf Halbleiter-Wafern; Geräte zur Herstellung von Verbindungshalbleiterschichten auf Halbleiter-Wafern; Geräte für die metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) für die Halbleiterfertigung; Geräte für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) für die Halbleiterfertigung; Ätzgeräte für die Halbleiterfertigung; Andere Geräte für die Halbleiterfertigung; Steuermechanismen zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte (einschließlich Steuergeräte für verminderten Druck, Temperatursteuergeräte, Rotationssteuergeräte); Geräte zur Gasbereitstellung und Teile für die Gasbereitstellung zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte; Abgasbehandlungsgeräte und Teile für die Abgasbehandlung für die Halbleiterfertigung; Wafer-Aufnahmegeräte zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte; Wafer-Aufnahmeroboter zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte; Wafer-Reinigungsgeräte zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte; Teile, Zubehör und Rohre zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte, Steuermechanismen für diese Geräte, Geräte zur Gasbereitstellung für diese Geräte, Abgasbehandlungsgeräte für diese Geräte, Wafer-Aufnahmegeräte für diese Geräte, Wafer-Aufnahmeroboter für diese Geräte, Wafer-Reinigungsgeräte für diese Geräte; Rohre zur Verwendung für Temperaturmessgeräte und Waferkrümmungsmessgeräte für Halbleiterfertigungsgeräte
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Temperaturmessgeräte zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte; Waferkrümmungsmessgeräte zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte; Teile und Zubehör zur Verwendung für Temperaturmessgeräte und Waferkrümmungsmessgeräte für Halbleiterfertigungsgeräte
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Reparatur, Wartung und Installation von Geräten zum Platzieren auf Halbleiter-Wafern, Geräten zum Durchführen von epitaktischem Wachstum auf Halbleiter-Wafern und Geräten zur Herstellung von Verbindungshalbleiterschichten auf Halbleiter-Wafern; Reparatur, Wartung und Installation von Geräten für die metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) für die Halbleiterfertigung, Geräten für die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) für die Halbleiterfertigung, Ätzgeräten für die Halbleiterfertigung und anderen Geräten für die Halbleiterfertigung sowie Teilen, Zubehör und Rohren dafür; Reparatur, Wartung und Installation von Steuergeräten zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte (einschließlich Steuergeräte für verminderten Druck, Temperatursteuergeräte, Rotationssteuergeräte); Reparatur, Wartung und Installation von Geräten zur Gasbereitstellung und Teilen für die Gasbereitstellung zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte, von Abgasbehandlungsgeräten und Teilen für die Abgasbehandlung zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte sowie von Wafer-Aufnahmegeräten zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte; Reparatur, Wartung und Installation von Wafer-Aufnahmerobotern zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte, Wafer-Reinigungsgeräten zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte, Temperaturmessgeräten zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte, Waferkrümmungsmessgeräten zur Verwendung für Halbleiterfertigungsgeräte sowie Teilen, Zubehör und Rohren dafür; Bereitstellung von Informationen in Bezug auf die Reparatur, Wartung und Installation von Halbleiterfertigungsgeräten, Steuergeräten für diese Geräte, Geräten zur Gasbereitstellung für diese Geräte sowie Abgasbehandlungsgeräten für diese Geräte; Bereitstellung von Informationen in Bezug auf die Reparatur, Wartung und Installation von Wafer-Aufnahmegeräten für diese Geräte, Wafer-Aufnahmerobotern für diese Geräte, Wafer-Reinigungsgeräten für diese Geräte, Temperaturmessgeräten für diese Geräte, Waferkrümmungsmessgeräten für diese Geräte sowie Teilen, Zubehör und Rohren dafür