HQ-Dielectrics

EUIPO EUIPO 2010 Marke eingetragen (aktive Marke)

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Die Unionsmarke HQ-Dielectrics wurde als Wortmarke am 02.09.2010 beim Amt der Europäischen Union für Geistiges Eigentum angemeldet.
Sie wurde am 27.04.2012 im Markenregister eingetragen. Der aktuelle Status der Marke ist "Marke eingetragen (aktive Marke)".

Markendetails Letztes Update: 08. Februar 2024

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 009348814
Anmeldedatum 02. September 2010
Veröffentlichungsdatum 19. Januar 2012
Eintragungsdatum 27. April 2012
Ablaufdatum 02. September 2030

Markeninhaber

Postfach 49
89156 Dornstadt
DE

Markenvertreter

Gewürzmühlstr. 5 80538 München DE

Waren und Dienstleistungen

9 Hardware und Software für den Betrieb von Geräten für die thermische und Plasmabehandlung von Oberflächen und Gegenständen oder für thermische und Plasmaverfahren zur Modifizierung von Oberflächen, insbesondere von Halbleiteroberflächen; wissenschaftliche, Vermessungs-, elektrische, fotografische, film-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontroll-, Rettungs- und Unterrichtsapparate und -instrumente (soweit in Klasse 9 enthalten), jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Apparate und Instrumente zum Leiten, Schalten, Umwandeln, Speichern, Regeln und Kontrollieren von Elektrizität, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und Rohstoffen hierfür
37 Aufstellen, Wartung und Reparatur von Maschinen und deren Einzelteile zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern insbesondere unter Vakuum für die Halbleiterchip- und Solarzell-Fertigung; Maschinen für die Beförderung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen zum Ätzen von Halbleiteroberflächen insbesondere unter Vakuum (auch ALD- beziehungsweise CVD-Verfahren); Maschinen zur Beförderung oder Bearbeitung oder Bereitstellung von Flatpanels; Halbleiter und Verbindungshalbleiter; Hardware und Software für den Betrieb von Geräten für die thermische und Plasmabehandlung von Oberflächen und Gegenständen oder für thermische und Plasmaverfahren zur Modifizierung von Oberflächen, insbesondere von Halbleiteroberflächen; wissenschaftliche, Vermessungs-, elektrische, fotografische, film-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontroll-, Rettungs- und Unterrichtsapparate und -instrumente, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Apparate und Instrumente zum Leiten, Schalten, Umwandeln, Speichern, Regeln und Kontrollieren von Elektrizität, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und Rohstoffen hierfür; Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern für die Halbleiterchip-Fertigung; Schnellaufheiz-Apparate für die Halbleiterbehandlung und -fertigung, insbesondere auf der Basis von Halogen- und Bolgenlampen; Eptiaxial-Reaktoren
40 Materialbearbeitung
42 Technische Entwicklung von Maschinen und deren Einzelteile zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern insbesondere unter Vakuum für die Halbleiterchip- und Solarzell-Fertigung; Maschinen für die Beförderung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen zum Ätzen von Halbleiteroberflächen insbesondere unter Vakuum (auch ALD- beziehungsweise CVD-Verfahren); Maschinen zur Beförderung oder Bearbeitung oder Bereitstellung von Flatpanels; Halbleiter und Verbindungshalbleiter; Hardware und Software für den Betrieb von Geräten für die thermische und Plasmabehandlung von Oberflächen und Gegenständen oder für thermische und Plasmaverfahren zur Modifizierung von Oberflächen, insbesondere von Halbleiteroberflächen; wissenschaftliche, Vermessungs-, elektrische, fotografische, film-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontroll-, Rettungs- und Unterrichtsapparate und -instrumente, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Apparate und Instrumente zum Leiten, Schalten, Umwandeln, Speichern, Regeln und Kontrollieren von Elektrizität, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und Rohstoffen hierfür; Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern für die Halbleiterchip-Fertigung; Schnellaufheiz-Apparate für die Halbleiterbehandlung und -fertigung, insbesondere auf der Basis von Halogen- und Bolgenlampen; Eptiaxial-Reaktoren

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
02. September 2020 Verlängerung, Trade mark renewed

ID: 11009348814