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Investitionsgüter für die Verarbeitung von mikroelektronischen Bauelementen; Flüssigkeits-, Gasphasen- und Kryoausrüstungen für die Verarbeitung von mikroelektronischen Bauelementen, wie zum Beispiel Halbleiterscheiben, Flachbildschirme und Dünnfilmköpfe; elektronisch gesteuerte Spritzgeräte zur Verarbeitung von Halbleiterscheiben mittels Säureätzung, Reinigung und Spülung; Reinigungsmaschinen für Halbleiterscheiben mit Ultraschallfrequenzdruckwellen in Flüssigbad; Trocknungsmaschinen für Halbleiterscheiben und für Scheiben, Substrate und Platten; Maschinen zur Reinigung und chemischen Verarbeitung von Halbleiterscheiben, Masken und Substraten mit Gasen und versprühten Flüssigkeiten und versprühten kryogenen Chemikalien bei der Herstellung von Chips für integrierte Schaltkreise und ähnlichen Erzeugnissen; Ausrüstung für die Oberflächenbehandlung; Mikrolithografiegerät zur Verwendung mit Halbleiterscheiben, Flachbildschirmen und Dünnfilmköpfen, insbesondere Photoresistbearbeitungssysteme, Grundierungsgeräte, Härtegeräte, Abkühlgeräte, Photoresistbeschichtungsgeräte, Photoresistentfernungsgeräte, Handhabungsgeräte, Roboterhandhabungsgeräte und Computersteuerungsgeräte; Fotolithografiegeräte zur Verwendung mit Halbleiterscheiben, Flachbildschirmen und Dünnfilmköpfen; elektronisch gesteuerte Spritzgeräte zur Verarbeitung von Silikonscheiben, die das Entfernen des Lösungsmittels, das Reinigen, die Fotoresistentwicklung und das Spülen erfordert; elektronisch gesteuerte Spritzgeräte zur Verarbeitung, zum Ätzen und zur Reinigung von Halbleiterscheiben; elektronisch gesteuerte Spritzgeräte zur Verarbeitung von Siliziumscheiben durch Spülen und Trocknen; Geräte zur Verarbeitung von Halbleiterscheiben zum Entfernen von Oxidfilmen durch Ätzen; Systeme zum Auffangen von Chemikalien, insbesondere zum Auffangen von Lösungsmitteln oder heißen Säuren; Schnittstellen für Spritzwerkzeuge; Betriebs-, Handhabungs-, Verarbeitungs-, Verteilungs-, Versorgungs-, Ausgabe-, Mess-, Sammel-, Verdünnungs-, Misch-, Verschneid-, Filterungs-, Probenahme-, Dosier-, Wasch- und Reinigungsgeräte und -systeme, alle für Chemikalien und/oder Schlämme; Ventile und Durchflussregelvorrichtungen; und Luft- und Gasfördergeräte für solche Maschinen und Ventile; Apparate zur Abgabe von Chemikalien; Mess- und -abgabegeräte für Bulkchemikalien für die Abgabe von Flüssigkeiten, insbesondere wässrigen oder gelösten Chemikalien; Abgabemodule für Chemikalien, insbesondere Pumpen und Filter, die flüssige Chemikalien aus einem Versorgungsfass abziehen, sowie Abgabe der Chemikalien an eine Verwendungsstelle; Geräte für die Verschneidung und Mischung von Chemikalien, Verschneidgeräte für wässrige Chemikalien; Geräte für die Verdünnung und Mischung von Chemikalien, insbesondere von flüssigen Chemikalien oder Schlämmen; Spritzgeräte; Systeme für die Filterung und Verteilung von Chemikalien; Systeme für die Erzeugung von Chemikalien; Systeme für die Messung und Abgabe von Chemikalien; Teile und Zusatzteile für alle vorstehend genannten Waren; jedoch ausgenommen Waren zur Verwendung als Maschinen für die Herstellung oder mechanische Handhabung von Containern oder deren Teilen und Bestandteilen oder Maschinen zum Verschließen von Containern und ausgenommen Filter oder Waren, die diesen ausgenommenen Waren ähneln; Teile und Zusatzteile für alle vorstehend genannten Waren
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Maschinen zur Herstellung von Mikroelektronikbauteilen und Halbleitern zum Reinigen, Ätzen, Entfernen, Verarbeiten und Herstellen von Silikonplatten, integrierten Schaltkreisen, Halbleitern, Halbleitersubstraten und Mikroelektronikleistungen und -geräte; Spritzmaschinen für Flüssigkeiten und Gasphasenmedien zur Verarbeitung von Halbleiterscheiben; Reinigungsmaschinen für Halbleiterscheiben mit Ultraschallfrequenzdruckwellen in einem Flüssigbad; Trocknungsmaschinen für Halbleiterscheiben und für Scheiben, Substrate und Platten; Mess- und Abgabegeräte für flüssige Bulkchemikalien; Betriebs-, Ausgabe-, Mess-, Sammel-, Verdünnungs-, Misch-, Verschneid-, Filterungs-, Probenahme-, Dosier-, Wasch- und Reinigungsgeräte und -systeme, alle für Chemikalien und/oder Schlämme; Verteilsysteme für Chemikalien ohne Pumpe; Apparate für das Verdünnen, Mischen und die Abgabe von Schlämmen von Reinigungschemikalien; Apparate zur Abgabe von Chemikalien; Mess- und Abgabegeräte für Bulkchemikalien für die Abgabe von Flüssigkeiten, insbesondere wässrigen oder gelösten Chemikalien; Abgabemodule für Chemikalien, insbesondere Pumpen, Filter, und Fließleitungen, die Chemikalien aus einem Versorgungsfass abziehen, sowie Abgabe der Chemikalien an eine Verwendungsstelle; Geräte für die Verschneidung und Mischung von Chemikalien, Verschneidgeräte für wässrige Chemikalien; Geräte zur Verdünnung und Mischung von Chemikalien, insbesondere von flüssigen Chemikalien oder Schlämmen; Systeme für die Abgabe von Chemikalien, insbesondere Systeme für die Abgabe von flüssigen, wässrigen oder chemischen Lösungsmitteln oder Schlämmen; Geräte zur Verwendung in Systemen für die Abgabe von Chemikalien, insbesondere Geräte zum Verschneiden, Verdünnen, Verdünnen und Mischen, Messen und Abgeben, Mischen und Abgaben von Chemikalien, Geräte für die Herstellung von Chemikalienchargen, Geräte zur Probenahme von Chemikalien, Spritzgeräte; Systeme für die Filterung und Verteilung von Chemikalien; elektronische automatische Geräte zum Abziehen flüssiger Chemikalien, zur Abgabe von Chemikalien und zur Kontrolle der Abgabe von Chemikalien an eine weit von einer Bulkquelle entfernten Verwendungsstelle; Systeme für die Erzeugung von Chemikalien; Mess- und Abgabesysteme für Chemikalien (aus Edelmetall); Sammelsysteme für teilweise verbrauchte Chemikalien; Computersoftware für Systeme zur Abgabe von Chemikalien; Computersoftware für die Überwachung und/oder Kontrolle der oben genannten Geräte und Überwachung und/oder Kontrolle der Herstellungsausrüstung für Halbleiter, Flachbildschirme und Dünnfilmköpfe und elektronische Steuergeräte für Systeme zur Versorgung mit Chemikalien, Computersoftware zur Verwendung in Abgabesystemen für Chemikalien oder Halbleiterverarbeitungsausrüstungen; Reinigungsmaschinen für Halbleiterscheiben mit Ultraschallfrequenzdruckwellen in Flüssigbad; Produkte für die Oberflächenbehandlung; Mikrolithografiegeräte zur Verwendung mit Halbleiterscheiben, Flachbildschirmen, und Dünnfilmköpfen, insbesondere Fotoresistverarbeitungssystemen, Grundierungsgeräte, Härtegeräte, Abkühlgeräte, Fotoresistberschichtungsgeräte, Fotoresistentfernungsgeräte, Handhabungsgeräte, Roboterhandhabungsgeräte und Computersteuerungsgeräte; automatisches Pagersystem; elektrisch belüftete Schränke für die Raffination einer Chemikalie in einem Versorgungsfass; Computersteuergeräte; Teile und Zusatzteile für alle vorstehend genannten Waren; jedoch ausgenommen andere Computersoftware als diejenige, die in Abgabesystemen für Chemikalien oder Ausrüstungen zur Verarbeitung von Halbleitern und/oder Mikroelektronikbauteilen verwendet werden, Teile und Zubehör aller vorgenannten Waren
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Warmwasserbereiter; Versorgungs-, Ausgabe-, Mess-, Sammel-, Filterungs-, Wasch- und Reinigungsgeräte und -systeme, alle für Chemikalien und/oder Schlämme; Mikrolithografiegeräte zur Verwendung mit Halbleiterscheiben, Flachbildschirmen, und Dünnfilmköpfen, insbesondere Härtegeräte und Abkühlgeräte; Warmwasserbereiter; Lüftungsgeräte; Ventile und Durchflussregelgeräte; Systeme für die Filterung und Verteilung von Chemikalien; Teile und Zusatzteile für alle vorstehend genannten Waren; ausgenommen jedoch Flüssigkeitsfilter oder Waren, die diesen ausgeschlossenen Waren ähneln; Teile und Zusatzteile für alle vorstehend genannten Waren