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Maschinen, Apparate und Instrumente zur Herstellung von Halbleitern; Maschinen, Apparate und Instrumente zur Herstellung von Dünnfilmtransistoren; Maschinen, Apparate und Instrumente zur Verarbeitung und Herstellung von Halbleitersubstraten, Siliziumplatten und -scheiben; Maschinen, Apparate und Instrumente zur Herstellung von Flüssigkristallanzeigen; Ausrüstungen zur Verarbeitung von Dünnfilmen, Ausrüstungen zur Verarbeitung von Wafern, Ausrüstungen zur Verarbeitung für den Bereich Ätztechnologie, Ausrüstungen zur Verarbeitung für den Bereich Aufbringung, alle zur Verwendung in der Herstellung und Verarbeitung von Computerhardware, Computersoftware und Computerbauteilen, einschließlich Halbleiter, integrierte Schaltkreise und Flachbildschirme; chemisch-mechanische Polierer; Teile, Bestandteile, Zubehör und Bauteile für alle vorstehend genannten Waren
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Halbleiter sowie Halbleiter enthaltende Apparate und Instrumente; Apparate und Instrumente zur Herstellung von Halbleitern; Ausrüstungen, Apparate, Instrumente und Komponenten zur Verarbeitung von Halbleiterscheiben; Apparate und Instrumente zur Verarbeitung und Herstellung von Halbleitersubstraten, Siliziumplatten und -scheiben; Epitaxialreaktoren, chemische Aufdampfungsreaktoren, physikalische Aufdampfungsreaktoren, Plasmaätzer, Ionenimplantationsanlagen, Trägerrahmen und Bauteile dafür; chemisch-mechanische Polierer; Halbleitersubstrate, Siliziumplatten und -scheiben; Teile, Zusatzteile und Zubehör für alle vorstehend genannten Waren; sowie Computerprogramme zur Verwendung mit allen vorstehend genannten Waren
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Installation, Wartung und Reparatur von Maschinen, Apparaten und Instrumenten für die Herstellung von elektronischen Apparaten und Instrumenten; von Maschinen, Apparaten und Instrumenten zur Herstellung von Halbleitern, Dünnfilmtransistoren und Flüssigkristallanzeigen; von wissenschaftlichen, elektrischen und elektronischen Apparaten und Instrumenten; von Apparaten und Instrumenten zur Herstellung von Halbleitern; von Ausrüstungen, Apparaten, Instrumenten zur Verarbeitung von Halbleiterscheiben; von Epitaxialreaktoren, chemischen Aufdampfungsreaktoren, physikalischen Aufdampfungsreaktoren, Plasmaätzern, Ionenimplantationsanlagen, Trägerrahmen und Bauteilen dafür; von chemisch-mechanischen Polierern; von Halbleitersubstraten, Siliziumplatten und -scheiben; von Dünnfilmtransistoren, Ausrüstung zur Verarbeitung von Dünnfilmen und Flüssigkristallanzeigen; von Teilen, Bestandteilen und Zubehör für alle vorstehend genannten Ausrüstungen, Apparate und Instrumente