scia Systems Logo (DPMA, 06.12.2016)
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Die Deutsche Marke scia Systems wurde als Wort-Bildmarke am 06.12.2016 beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 19.01.2017 im Markenregister eingetragen.
Der aktuelle Status der Marke ist "Marke eingetragen".
Logodesign (Wiener Klassifikation)
#Buchstabenreihen in verschiedenen Dimensionen #Buchstaben, die mit einem figurativen Element verbunden sind #Kreise, die einen oder mehrere Buchstaben enthalten #Weiß, grau, silber #Buchstaben in heller Schrift auf dunklem Hintergrund #Serien von Buchstaben, die nicht durch ein einzelnes Leerzeichen voneinander getrennt sind #Ein Kreis #Kreise mit dunklen Flächen oder Teilen von Flächen #Schwarz #Serie von Briefen, die verschiedene Formen des Schreibens darstellen
| Markenform | Wort-Bildmarke |
| Aktenzeichen | 3020161110090 |
| Registernummer | 302016111009 |
| Internationale Marke | Nr. IR1371501, 05. Juli 2024 |
| Anmeldedatum | 06. Dezember 2016 |
| Veröffentlichungsdatum | 24. Februar 2017 |
| Eintragungsdatum | 19. Januar 2017 |
| Beginn Widerspruchsfrist | 24. Februar 2017 |
| Ende Widerspruchsfrist | 24. Mai 2017 |
| Ablaufdatum | 31. Dezember 2026 |
Markeninhaber
09116 Chemnitz
DE
Markenvertreter
81675 München
DE
Waren und Dienstleistungen
7
Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Beschichtung von Substraten mittels chemischer oder physikalischer Gasphasenbescheidung; Vakuumbeschichtungsmaschinen und -anlagen; Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Substraten mittels Ionenstrahl; Anlagen zur Beschichtung und Ätzung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial, mittels Ionenstrahl; Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von optischen Bauelementen, insbesondere von optischen Linsen und optischen Spiegeln; Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von elektronischen Bauelementen, insbesondere von mikroelektronischen Bauelementen, Chips und integrierten Schaltkreisen
9
Elektrische Apparate, nämlich Sputteranlagen, Elektronenstrahlanlagen und Ionenstrahlanlagen; Mess-, Signal-, Kontrollapparate und -instrumente für Maschinen und Anlagen zur Behandlung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Hardware für die Datenverarbeitung für Maschinen und Anlagen zur Behandlung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Computer und Computersoftware für Maschinen und Anlagen zur Behandlung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Ionenstrahlerzeugungsanlagen; Ionenstrahlätzanlagen; Ionenstrahlversorgungsgeräte; Ionisierungsapparate für wissenschaftliche oder Laborzwecke; Software zur Verwendung bei der Verarbeitung von Halbleiter-Wafern; Halbleiterbauelemente, insbesondere von mikroelektronischen Halbleiterbauelementen
37
Installation von Industriemaschinen; Reparatur von Industriemaschinen; Wartung von Industriemaschinen; Installation, Reparatur und Wartung von Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Installation, Reparatur und Wartung von Ionenstrahlanlagen und Elektronenstrahlanlagen; Installation, Reparatur und Wartung von Mess-, Signal-, Kontrollapparaten und -instrumenten für Maschinen und Anlagen zur Behandlung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Installation von Computern; Reparatur von Computern; Wartung von Computern
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Materialbearbeitung mittels Ionenstrahl; Ätzen, insbesondere unter Verwendung eines Ionenstrahls; Aufbringung von Beschichtungen mittels Vakuumbedampfungsmethoden; Verarbeitung und Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Verarbeitung und Bearbeitung von optischen Bauelementen; Verarbeitung und Bearbeitung von elektronischen Bauelementen
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Ingenieursdienstleistungen; Entwurf und Entwicklung von Industriemaschinen und -anlagen; Entwurf und Entwicklung von Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Entwurf und Entwicklung von Ionenstrahlanlagen; Entwicklung industrieller Verfahren; Entwicklung industrieller Verfahren zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 04. November 2021 | 202100406780 | 8a | Übertragung / Adressänderung, Abgeschlossen |
| 24. Juni 2017 | 201700015057 | 2a | Widerspruchszeitraum, Marke ohne Widerspruch eingetragen |
| 19. Januar 2017 | 201620786292 | 1aaa | Eintragung, Marke eingetragen |
ID: 103020161110090