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Die Deutsche Marke TeraPure wurde als Wortmarke am 07.09.2009 beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 14.01.2010 im Markenregister eingetragen.
Der aktuelle Status der Marke ist "Marke gelöscht".
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 3020090528381 |
| Registernummer | 302009052838 |
| Internationale Marke | Nr. IR1046538, 30. September 2024 |
| Anmeldedatum | 07. September 2009 |
| Veröffentlichungsdatum | 19. Februar 2010 |
| Eintragungsdatum | 14. Januar 2010 |
| Beginn Widerspruchsfrist | 19. Februar 2010 |
| Ende Widerspruchsfrist | 19. Mai 2010 |
| Ablaufdatum | 30. September 2019 |
Markeninhaber
85748 Garching
DE
Markenvertreter
81675 München
DE
Waren und Dienstleistungen
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maschinelle Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen für die Herstellung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; nasschemische Maschinen und daraus zusammengestellte Anlagen für die Behandlung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; vollautomatische Maschinen und daraus bestehende Anlagen zum Reinigen, Belacken, Entwickeln, Ätzen und Strippen von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; maschinelle Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen (manuelles Einlegen und Entnehmen) zum Reinigen, Belacken, Entwickeln, Ätzen und Strippen von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; Maschinen für die Halbleiterindustrie oder Festplattenindustrie einschließlich Maschinen für die Belackung und Beschichtung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie, Maschinen für die Aushärtung von Beschichtungen und Lacken, Maschinen für die Reinigung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie für die Halbleiter- oder Festplattenherstellung, Maschinen für die Inspektion von Substraten und Scheiben, Maschinen für die Entwicklung von Substraten, Maschinen für die Ätzung von Schichten auf Substraten; Handhabungs- und Automatisierungskomponenten und –systeme, im wesentlichen bestehend aus Greifern, Transportapparaten, Fördergeräten, Be- und Entladevorrichtungen, Linear- und Schwenkgeräten (soweit in Klasse 7 enthalten); Versorgungs- und Aufbereitungssysteme für Flüssigkeiten und Gase, im wesentlichen bestehend aus Pumpen (Maschinen- oder Motorenteile), Filtern (Teile von Maschinen), Ventilen (als Maschinenteile), Dosiermaschinen; Teile der vorgenannten Waren
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Installation der Anlage beim Kunden sowie prozesstechnische Inbetriebnahme der Anlage im Rahmen der Installation zur ordnungsgemäßen Durchführung der für die Anlage vorgesehenen trocken- und nasschemischen sowie physikalischen Verfahren; Reinigung der Oberfläche von Masken für die Halbleiter- oder Festplattenherstellung und von Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie mittels trocken- und nasschemischer sowie physikalischer Verfahren und Wartung der vorgenannten Waren
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Materialbearbeitung, insbesondere Erstellung von Masken für die Halbleiter- oder Festplattenherstellung und von Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithografie; Materialbearbeitung, insbesondere lithographische Bearbeitung von Substraten, insbesondere mittels Nanolmprint-Lithographie
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 29. Mai 2020 | 202000172359 | 5f | Löschung, Marke geloescht |
| 06. Dezember 2017 | 201700394326 | 3b | Übertragung / Adressänderung, Abgeschlossen |
| 12. November 2012 | 201200375148 | 3b | Übertragung / Adressänderung, Abgeschlossen |
| 21. Juni 2010 | 201000011841 | 2a | Widerspruchszeitraum, Marke ohne Widerspruch eingetragen |
| 14. Januar 2010 | 200900311812 | 1aaa | Eintragung, Marke eingetragen |
ID: 103020090528381