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The German trademark TeraPure was filed as Word mark on 09/07/2009 at the German Patent and Trademark Office.
It was registered as a trademark on 01/14/2010.
The current status of the mark is "Trademark cancelled".
| Trademark form | Word mark |
| File reference | 3020090528381 |
| Register number | 302009052838 |
| International trademark | No. IR1046538, September 30, 2024 |
| Application date | September 7, 2009 |
| Publication date | February 19, 2010 |
| Entry date | January 14, 2010 |
| Start of opposition period | February 19, 2010 |
| End of the opposition period | May 19, 2010 |
| Expiration date | September 30, 2019 |
Trademark owner
85748 Garching
DE
Trademark representatives
81675 München
DE
goods and services
7
maschinelle Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen für die Herstellung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; nasschemische Maschinen und daraus zusammengestellte Anlagen für die Behandlung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; vollautomatische Maschinen und daraus bestehende Anlagen zum Reinigen, Belacken, Entwickeln, Ätzen und Strippen von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; maschinelle Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen (manuelles Einlegen und Entnehmen) zum Reinigen, Belacken, Entwickeln, Ätzen und Strippen von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; Maschinen für die Halbleiterindustrie oder Festplattenindustrie einschließlich Maschinen für die Belackung und Beschichtung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie, Maschinen für die Aushärtung von Beschichtungen und Lacken, Maschinen für die Reinigung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie für die Halbleiter- oder Festplattenherstellung, Maschinen für die Inspektion von Substraten und Scheiben, Maschinen für die Entwicklung von Substraten, Maschinen für die Ätzung von Schichten auf Substraten; Handhabungs- und Automatisierungskomponenten und –systeme, im wesentlichen bestehend aus Greifern, Transportapparaten, Fördergeräten, Be- und Entladevorrichtungen, Linear- und Schwenkgeräten (soweit in Klasse 7 enthalten); Versorgungs- und Aufbereitungssysteme für Flüssigkeiten und Gase, im wesentlichen bestehend aus Pumpen (Maschinen- oder Motorenteile), Filtern (Teile von Maschinen), Ventilen (als Maschinenteile), Dosiermaschinen; Teile der vorgenannten Waren
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Installation der Anlage beim Kunden sowie prozesstechnische Inbetriebnahme der Anlage im Rahmen der Installation zur ordnungsgemäßen Durchführung der für die Anlage vorgesehenen trocken- und nasschemischen sowie physikalischen Verfahren; Reinigung der Oberfläche von Masken für die Halbleiter- oder Festplattenherstellung und von Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie mittels trocken- und nasschemischer sowie physikalischer Verfahren und Wartung der vorgenannten Waren
40
Materialbearbeitung, insbesondere Erstellung von Masken für die Halbleiter- oder Festplattenherstellung und von Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithografie; Materialbearbeitung, insbesondere lithographische Bearbeitung von Substraten, insbesondere mittels Nanolmprint-Lithographie
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Trademark history
| Date | Document number | Area | Entry |
|---|---|---|---|
| May 29, 2020 | 202000172359 | 5f | Deletion, Marke geloescht |
| December 6, 2017 | 201700394326 | 3b | Transfer / Change of address, Abgeschlossen |
| November 12, 2012 | 201200375148 | 3b | Transfer / Change of address, Abgeschlossen |
| June 21, 2010 | 201000011841 | 2a | Opposition period, Marke ohne Widerspruch eingetragen |
| January 14, 2010 | 200900311812 | 1aaa | Registration, Marke eingetragen |
ID: 103020090528381