1011709

WIPO WIPO 2017

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Die Internationale Marke 1011709 wurde als Bildmarke am 31.05.2017 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

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Logodesign (Wiener Klassifikation)

#Dreiecke, Linien, die einen Winkel bilden #Quadrilateralen #Verschiedene geometrische Figuren, nebeneinander, verbunden oder sich überschneidend #Geometrische Körper #Farben #Mehrere Dreiecke, nebeneinander liegend, verbunden oder sich überschneidend #Dreieckige Figuren mit einem oder mehreren abgeschnittenen oder abgerundeten Winkeln #Andere Kombinationen von verschiedenen geometrischen Figuren, nebeneinander, verbunden oder sich überschneidend, Kombinationen von mehr als zwei verschiedenen geometrischen Figuren #Pyramiden #Würfel #Rot, rosa, orange

Markendetails Letztes Update: 17. April 2023

Markenform Bildmarke
Aktenzeichen 1360835
Registernummer 1011709
Länder Europäische Gemeinschaft Israel Indien Japan Südkorea Malaysia Singapur Vereinigte Staaten von Amerika (USA) China
Basismarke BX Nr. 1011709, 29. Mai 2017
Anmeldedatum 31. Mai 2017
Ablaufdatum 31. Mai 2027

Markeninhaber

ASM IP Holding B.V.
Versterkerstraat 8
1322 AP ALMERE
NL

Markenvertreter

Novagraaf Nederland B.V.
Hoogoorddreef 5 1101 BA Amsterdam NL

Waren und Dienstleistungen

01 Chemical source material for the deposition of thin film layers upon semiconductor wafers and substrates in the manufacture of semiconductors
07 Machines for the assembly and packaging of electronic chips; machines for manufacturing semiconductors, and structural parts and fittings therefor; semiconductor manufacturing machines; semiconductor manufacturing machines and systems composed of a vacuum chamber for accommodating semiconductor wafers and structural parts and machines for handling and transferring semiconductor wafers into and out of vacuum chamber, and structural parts and fittings therefor; machines for the treatment of semiconductor wafers, namely, semi-conductor wafer processing equipment, and structural parts and fittings therefor; industrial chemical reactors; industrial robots
09 Electrical reactors for processing semiconductor wafers; reactors for processing semiconductor wafers, namely, chemical reactors for the thermal treatment of semiconductor wafers and reactors for chemical vapor deposition; laboratory chemical reactors; robots being electronic control devices, namely, laboratory robots; electronic controllers for the semiconductor industry; electronic control systems for machines; structural parts and fittings for the aforementioned goods
35 Business intermediary services in the fields of buying, selling, importing and exporting of equipment for the deposition of thin film layers used in the manufacture of semiconductors, machines and apparatus for the assembly and packaging of electronic chips, apparatus for manufacturing semiconductors and parts and fittings therefor, semiconductor manufacturing machines and systems and parts and fittings therefor, and machines for the treatment of semiconductor wafers and semi-conductor wafer processing equipment and parts and fittings therefor; retail, wholesale, and online sale services in the fields of equipment for the deposition of thin film layers used in the manufacture of semiconductors, machines and apparatus for the assembly and packaging of electronic chips, apparatus for manufacturing semiconductors and parts and fittings therefor, semiconductor manufacturing machines and systems and parts and fittings therefor, and machines for the treatment of semiconductor wafers and semi-conductor wafer processing equipment and parts and fittings therefor
37 Construction, installation, repair and maintenance of semiconductor and semiconductor wafer manufacturing machines and systems
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
02. Januar 2023 2023/5 Gaz IL RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
14. September 2022 2022/39 Gaz MY Ablehnung
28. Juli 2022 2022/30 Gaz US Ablehnung
11. März 2022 2022/12 Gaz IL Ablehnung
19. Oktober 2021 2021/43 Gaz Korrektur
13. November 2018 2018/46 Gaz KR RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
18. Juli 2018 2018/46 Gaz SG RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
28. Juni 2018 2018/29 Gaz CN Ablehnung
22. Februar 2018 2018/9 Gaz JP Ablehnung
20. Februar 2018 2018/8 Gaz KR Ablehnung
19. Januar 2018 2018/4 Gaz EM Ablehnung
08. Januar 2018 2018/2 Gaz IN Ablehnung
27. Dezember 2017 2018/2 Gaz SG Ablehnung
31. Mai 2017 2017/31 Gaz BX Eintragung

ID: 141360835

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