AIR LIQUIDE ADVANCED MATERIALS

USPTO USPTO 2015 REGISTERED

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Die US-Marke AIR LIQUIDE ADVANCED MATERIALS wurde als Wortmarke am 06.01.2015 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 08.05.2018 im Markenregister eingetragen. Der aktuelle Status der Marke ist "REGISTERED".

Markendetails

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 79171167
Registernummer 5461134
Anmeldedatum 06. Januar 2015
Veröffentlichungsdatum 20. Februar 2018
Eintragungsdatum 08. Mai 2018

Waren und Dienstleistungen

1 Chemicals, gases and gas mixtures, in liquid or gaseous form for use in industry, particularly in the electronics, optoelectronics, fiberoptic and chemical industries, namely, electronics specialty materials, namely, silane, sal ammoniac, nitrous oxide for industrial use; chemicals, gases and gas mixtures in liquid or gaseous form, for the manufacture of high-tech products, particularly semi-conductors, solar cells, light-emitting diodes, flat panel displays and batteries, namely, silicon in the nature of silane, disilane, bis(diethylamino)silane, hexachlorodisilane, trisilylamine, silicon tetrafluoride, boron in the nature of diborane and trimethylboron and transition metal and metalloid containing organic and inorganic compounds, namely, alkylamino, carbonyl, cyclopentadienyl and halides thereof for deposition or removal of transition metal or metalloid-containing thin films, boron-containing compounds, namely, diborane, trimethylboron; chemicals, gases and gas mixtures, in liquid or gaseous form, for use in science, research and material processing, namely, silicon in the nature of silane, disilane, bis(diethylamino)silane, hexachlorodisilane, trisilylamine, silicon tetraflouride, boron in the nature of diborane and trimethylboron, and transition-metal and metalloid containing organic or inorganic compounds, namely, alkylamino, carbonyl, cyclopentadienyl and halides thereof for deposition or removal of transition metal or metalloid-containing thin films
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ID: 1379171167