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Die US-Marke SENCERA wurde als Wortmarke am 05.05.2008 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 09.03.2010 im Markenregister eingetragen.
Der aktuelle Status der Marke ist "CANCELLED - SECTION 8".
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 77466013 |
| Registernummer | 3756527 |
| Anmeldedatum | 05. Mai 2008 |
| Veröffentlichungsdatum | 22. Dezember 2009 |
| Eintragungsdatum | 09. März 2010 |
Markeninhaber
3101 Stafford Drive
28208 Charlotte
US
28208 Charlotte
US
Markenvertreter
Waren und Dienstleistungen
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Plasma enhanced chemical vapor deposition (CVD) process chambers, namely, machines for the application of coatings to metal articles, glass articles, or plastic articles applied under vacuum using plasma assisted chemical vapor deposition process; plasma sources, namely, inductively coupled and atmospheric plasma sources in the nature of machines for the application of thin films for use in the manufacture of photovoltaic cells and modules
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Photovoltaic cells and modules; thin film transistors; and integrated circuits
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Scientific research, design, and development in the fields of photovoltaic cells and modules, plasma sources, namely, inductively coupled and atmospheric plasma sources in the nature of machines for the application of thin films for use in the manufacture of photovoltaic cells and modules, plasma enhanced chemical vapor deposition (CVD) process chambers, namely, machines for the application of coatings to metal articles, glass articles, or plastic articles applied under vacuum using plasma assisted chemical vapor deposition process, thin film transistors, and integrated circuits for scientific and technological applications
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ID: 1377466013