IONIC PLASMA DEPOSITION

USPTO USPTO 2007 ABANDONED-FAILURE TO RESPOND OR LATE RESPONSE

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Die US-Marke IONIC PLASMA DEPOSITION wurde als Wortmarke am 04.01.2007 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet. Der aktuelle Status der Marke ist "ABANDONED-FAILURE TO RESPOND OR LATE RESPONSE".

Markendetails Letztes Update: 25. Mai 2018

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 77076149
Anmeldedatum 04. Januar 2007

Markeninhaber

105 S. Sunset Street
80501 Longmont
US

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

5 Coatings in the nature of metallic, organic, and inorganic molecules and particles, namely, nano-plasma, enzymes, proteins, DNA, RNA, and amino acids applied on the surfaces of medical devices to improve functionality thereof, namely to increase conductivity, insulation, anti-microbial activity, lubricity, hardness and cell attachment of said medical devices
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ID: 1377076149