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Die US-Marke ADVANCED PATTERNING FILM wurde als Wortmarke am 05.06.2002 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet. Der aktuelle Status der Marke ist "ABANDONED - NO STATEMENT OF USE FILED".
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 76417720 |
| Anmeldedatum | 05. Juni 2002 |
| Veröffentlichungsdatum | 06. Juli 2004 |
Markeninhaber
3050 Bowers Avenue
95054 Santa Clara
US
95054 Santa Clara
US
Markenvertreter
Waren und Dienstleistungen
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Semiconductor wafer processing equipment, operational software, and components, namely epitaxial reactors, chemical vapor deposition reactors, physical vapor deposition reactors, plasma etchers, ion implanters, and chemical mechanical polishers; all for the processing and production of semiconductor substrates, thin films, silicon discs and wafers
17
Insulating films for use in the manufacture of semiconductors
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ID: 1376417720