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Die US-Marke PHOTOMASK ETCHER II wurde als Wortmarke am 10.06.1998 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet. Der aktuelle Status der Marke ist "ABANDONED - NO STATEMENT OF USE FILED".
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 75499299 |
| Anmeldedatum | 10. Juni 1998 |
| Veröffentlichungsdatum | 28. Dezember 1999 |
Markeninhaber
10050 16th Street North
33716 St. Petersburg
US
33716 St. Petersburg
US
Markenvertreter
Waren und Dienstleistungen
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plasma etching and plasma deposition machines used in the fabrication of semiconductor devices and in the fabrication of related electronic components
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ID: 1375499299