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Die Unionsmarke HQ-D wurde als Wortmarke am 21.09.2010 beim Amt der Europäischen Union für Geistiges Eigentum angemeldet.
Sie wurde am 18.03.2011 im Markenregister eingetragen.
Der aktuelle Status der Marke ist "Marke eingetragen (aktive Marke)".
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 009390031 |
| Anmeldedatum | 21. September 2010 |
| Veröffentlichungsdatum | 09. Dezember 2010 |
| Eintragungsdatum | 18. März 2011 |
| Ablaufdatum | 21. September 2030 |
Markeninhaber
Dornstadter Weg 9/1
89160 Dornstadt
DE
89160 Dornstadt
DE
Markenvertreter
Gewürzmühlstr. 5
80538 München
DE
Waren und Dienstleistungen
7
Maschinen und deren Einzelteile zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern insbesondere unter Vakuum für die Halbleiterchip- und Solarzell-Fertigung; Maschinen für die Beförderung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen zum Ätzen von Halbleiteroberflächen insbesondere unter Vakuum (auch ALD- beziehungsweise CVD-Verfahren); Maschinen zur Beförderung oder Bearbeitung oder Bereitstellung von Flatpanels
9
Halbleiter und Verbindungshalbleiter; Hardware und Software für den Betrieb von Geräten für die thermische und Plasmabehandlung von Oberflächen und Gegenständen oder für thermische und Plasmaverfahren zur Modifizierung von Oberflächen, insbesondere von Halbleiteroberflächen; wissenschaftliche, Vermessungs-, elektrische, fotografische, film-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontroll-, Rettungs- und Unterrichtsapparate und -instrumente (soweit in Klasse 9 enthalten), jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Apparate und Instrumente zum Leiten, Schalten, Umwandeln, Speichern, Regeln und Kontrollieren von Elektrizität, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und Rohstoffen hierfür
11
Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern für die Halbleiterchip-Fertigung; Schnellaufheiz-Apparate für die Halbleiterbehandlung und -fertigung, insbesondere auf der Basis von Halogen- und Bolgenlampen; Eptiaxial-Reaktoren
37
Aufstellen, Wartung und Reparatur von Maschinen und deren Einzelteile zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern insbesondere unter Vakuum für die Halbleiterchip- und Solarzell-Fertigung; Maschinen für die Beförderung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen zum Ätzen von Halbleiteroberflächen insbesondere unter Vakuum (auch ALD- beziehungsweise CVD-Verfahren); Maschinen zur Beförderung oder Bearbeitung oder Bereitstellung von Flatpanels; Halbleiter und Verbindungshalbleiter; Hardware und Software für den Betrieb von Geräten für die thermische und Plasmabehandlung von Oberflächen und Gegenständen oder für thermische und Plasmaverfahren zur Modifizierung von Oberflächen, insbesondere von Halbleiteroberflächen; wissenschaftliche, Vermessungs-, elektrische, fotografische, film-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontroll-, Rettungs- und Unterrichtsapparate und -instrumente, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Apparate und Instrumente zum Leiten, Schalten, Umwandeln, Speichern, Regeln und Kontrollieren von Elektrizität, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und Rohstoffen hierfür; Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern für die Halbleiterchip-Fertigung; Schnellaufheiz-Apparate für die Halbleiterbehandlung und -fertigung, insbesondere auf der Basis von Halogen- und Bolgenlampen; Eptiaxial-Reaktoren
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Materialbearbeitung
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Technische Entwicklung von Maschinen und deren Einzelteile zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern insbesondere unter Vakuum für die Halbleiterchip- und Solarzell-Fertigung; Maschinen für die Beförderung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen zum Ätzen von Halbleiteroberflächen insbesondere unter Vakuum (auch ALD- beziehungsweise CVD-Verfahren); Maschinen zur Beförderung oder Bearbeitung oder Bereitstellung von Flatpanels; Halbleiter und Verbindungshalbleiter; Hardware und Software für den Betrieb von Geräten für die thermische und Plasmabehandlung von Oberflächen und Gegenständen oder für thermische und Plasmaverfahren zur Modifizierung von Oberflächen, insbesondere von Halbleiteroberflächen; wissenschaftliche, Vermessungs-, elektrische, fotografische, film-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontroll-, Rettungs- und Unterrichtsapparate und -instrumente, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Apparate und Instrumente zum Leiten, Schalten, Umwandeln, Speichern, Regeln und Kontrollieren von Elektrizität, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und Rohstoffen hierfür; Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern für die Halbleiterchip-Fertigung; Schnellaufheiz-Apparate für die Halbleiterbehandlung und -fertigung, insbesondere auf der Basis von Halogen- und Bolgenlampen; Eptiaxial-Reaktoren
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 02. September 2020 | Verlängerung, Trade mark renewed |
ID: 11009390031