TeraPure

EUIPO EUIPO 2010 Registration expired

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Die Unionsmarke TeraPure wurde als Wortmarke am 02.03.2010 beim Amt der Europäischen Union für Geistiges Eigentum angemeldet.
Sie wurde am 24.08.2010 im Markenregister eingetragen. Der aktuelle Status der Marke ist "Registration expired".

Markendetails Letztes Update: 29. Januar 2021

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 008920795
Anmeldedatum 02. März 2010
Veröffentlichungsdatum 10. Mai 2010
Eintragungsdatum 24. August 2010
Ablaufdatum 02. März 2020

Markeninhaber

Schleissheimer Str. 90
85748 Garching
DE

Markenvertreter

Siebertstr. 3 81675 München DE

Waren und Dienstleistungen

7 Maschinelle Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen für die Herstellung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; nasschemische Maschinen und daraus zusammengestellte Anlagen für die Behandlung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; vollautomatische Maschinen und daraus bestehende Anlagen zum Reinigen, Belecken, Entwickeln, Ätzen und Strippen von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; maschinelle Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen (manuelles Einlegen und Entnehmen) zum Reinigen, Belecken, Entwickeln, Ätzen und Strippen von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Fastplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie; Maschinen für die Halbleiterindustrie oder Festplattenindustrie einschließlich Maschinen für die Belackung und Beschichtung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprlnt-Lithographie, Maschinen für die Aushärtung von Beschichtungen und Lacken, Maschinen für die Reinigung von Substraten, insbesondere Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie für die Halbleiter oder Festplattenherstellung, Maschinen für die Inspektion von Substraten und Scheiben, Maschinen für die Entwicklung von Substraten, Maschinen für die Ätzung von Schichten auf Substraten; Handhabungs- und Automatisierungskomponenten und -systeme, im wesentlichen bestehend aus Greifern, Transportapparaten, Fördergeräten, Be- und Entladevorrichtungen, Linear- und Schwenkgerten (soweit in Klasse 7 enthalten); Versorgungs- und Aufbereitungssysteme für Flüssigkeiten und Gase, im wesentlichen bestehend aus Pumpen (Maschinen- oder Motorenteile), Filtern (Teile von Maschinen), Ventilen (als Maschinenteile), Dosiermaschinen; Teile der vorgenannten Waren
37 Installation der Anlage beim Kunden sowie prozesstechnische Inbetriebnahme der Anlage im Rahmen der Installation zur ordnungsgemäßen Durchführung der für die Anlage vorgesehenen trocken- und nasschemischen sowie physikalischen Verfahren; Reinigung der Oberfläche von Masken für die Halbleiter- oder Festplattenherstellung und von Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithographie mittels trocken- und nasschemischer sowie physikalischer Verfahren und Wartung der vorgenannten Waren
40 Materialbearbeitung, insbesondere Erstellung von Masken für die Halbleiter- oder Festplattenherstellung und von Halbleitersubstraten, Festplatten, Siliziumscheiben, Wafern, Photo-, Hart- oder Prägemasken, Templates, Strukturmasken und Substraten für die Nanolmprint-Lithografie; Materialbearbeitung, insbesondere lithographische Bearbeitung von Substraten, insbesondere mittels Nanolmprint-Lithographie

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
02. Januar 2021 Verlängerung, Trade mark expired
24. Januar 2018 Änderung Vertreter, Published
01. Dezember 2017 Übertragung / Adressänderung, Published
17. August 2012 Übertragung / Adressänderung, Published

ID: 11008920795