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Chemische Erzeugnisse: diamantähnlicher Kohlenstoff, Magnetaufzeichnungsträgermaterial, mikroelektronische Bauteile, Metallüberzüge, insbesondere auf Werkzeugen, Instrumenten und Autoteilen, transparente Überzüge auf Glas und Plastik, insbesondere Strichcodierung und Sonnengläser; stickstoffhaltiger amorpher Kohlenstoff und Kohlenstoffnitrid (C3N4), stöchiometrisches Siliciumdioxid (SiO2) unterstöchiometrisches Siliciumdioxid (SiOx, 1, 5 < x < 2), Siliciumnitrid, Siliciumoxinitrid, polykristallines Silicium, polykristalliner Diamant, Zirkoniumdioxid stabilisiert durch Yttriumoxid, Titanlegierungen, insbesondere TiN, TialN und TiCN; Aluminiumverbindungen, insbesondere Al2O3 und AlOx und Aluminiumlegierungen; modifizierte Oberflächen, geätzte Halbleiter, behandelte Polymeroberflächen, Membranen und Sensoren, aroma-, sauerstoff- und wasserdampfdichte Umhüllungen; optische Beschichtungen, insbesondere Laserspiegel, dichroitische Schichten, optische Mehrschichten und Antireflexionsschichten, trübe und hitzebeständige Projektorgläser; Durchsatzmaterial, insbesondere gehärtetes, korrosions- und verschleißbeständiges Material, ultraflache Übergänge, dotierte Kanalstrukturen, Getter, Ätzstopschichten, Hohlräume für lichtemittierende Strukturen; plasmasterilisierte Material, plasmasterilisiertes Verpackungsmaterial, medizinisches Material mit erhöhten oligodynamischen Eigenschaften zur Behandlung von Verbrennungen und anderen Verletzungen, Beschichtungen auf chirurgischen Implantaten und orthopädischen Prothesen mit erhöhter Verträglichkeit und Verschleißbeständigkeit, Polymerüberzüge zur Verbesserung der Verankerung von Enzymen für biochemische Reaktionen; Schmiermittel; insbesondere stickstoffhaltiger amorpher Kohlenstoff und Kohlenstoffnitrid (C3N4), polykristalliner Diamant; Maschinen und Werkzeugmaschinen, soweit in Klasse 7 enthalten, insbesondere zu Ätz- und Dotierzwecken, zur Steuerung der Benetzbarkeit polymerer Oberflächen, Gewebe, Gläser und Papier, zur Ionenimplantation, zur Vakuumbeschichtung und Plasmauntersuchung, zur Erzeugung und Messung von Plasmaionenstrahlen; plasmasterilisierte medizinische Instrumente; Geräte zur Aufzeichnung, Übertragung und Wiedergabe von Ton und Bild; Datenverarbeitungsgeräte und Computer; Magnetaufzeichnungsträger, Balkencodelesegeräte; Flachbildschirme, Magnetaufzeichnungsträger mit diamantähnlicher Kohlenstoffbeschichtung, modifizierten Oberflächen, geätzten Halbleitervorrichtungen mit optischen Beschichtungen, insbesondere Laserspiegel, dichroite Schichten, optische Mehrschichten und hitzebeständige Projektorgläser; Materialbearbeitung: Plasmaverfahren und Oberflächenbehandlung, insbesondere trockenes Ätzen von Halbleiterstrukturen, Reinigen von Oberflächen und Entfernen von Oxiden, Verunreinigungen; chemisches Ätzen, Sputtern, Behandlung polymerer Oberflächen, Steuerung der Benetzbarkeit polymerer Oberflächen, Gewebe, Gläser und Papier; Dotieren, Herstellung ultraflacher Anschlüsse, Dotieren von Kanalstrukturen, Keimbildung für planare selektive Metallbeschichtung und Bildung von mehrschichtigen Gettern von Metallverunreinigungen, Bildung von Getterschichten durch Einleiten von Edelgasen, Wasserstoff, isoelektronischen Elementen (C, Si, Ge) und Dotierspezies (B, P, As), Aufbringen von Silicium auf Isolatoren, Bildung von Ätzstopschichten zur Siliciummikrobearbeitung, Bildung von wasserstoff- und heliuminduzierten Kanälen für lichtimitierende Strukturen; Plasmasterilisation medizinischer Instrumente und medizinischen Materials, Plasmasterilisation von Verpackungsmaterial, Vakkumbeschichtung, insbesondere im Kathodenbogen, Transistoren und Sensoren; Herstellung von Programmen für die Datenverarbeitung; technische Beratung, Durchführen technischer und chemischer Analysen, insbesondere Plasmaionenstrahldiagnostik, wissenschaftliche und industrielle Forschung, Erstellen wissenschaftlicher Fachberichte, Bereitstellen von Informationen im Internet
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