SHISEIDO SECOND SKIN Technology Logo (WIPO, 18.04.2022)
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Die Internationale Marke SHISEIDO SECOND SKIN Technology wurde als Wortmarke am 18.04.2022 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 1679803 |
| Länder | 
|
| Basismarke |
Nr. 2022-026473,
08. März 2022
|
| Anmeldedatum | 18. April 2022 |
| Ablaufdatum | 18. April 2032 |
Markeninhaber
5-5, Ginza 7-chome,
Chuo-ku
JP
Chuo-ku
JP
Markenvertreter
Marunouchi Park Building,
2-6-1 Marunouchi,
JP
Waren und Dienstleistungen
01
Chemicals for use in the manufacture of cosmetics, soaps,
perfumery and industrial products; polymer coatings other
than for paints; chemicals; plant growth regulating
preparations; fertilizers; higher fatty acids; chemical test
paper; artificial sweeteners; flour and starch for
industrial purposes; flour and starch for industrial
purposes for use in the manufacture of cosmetics; collagen
used as a raw ingredient in the manufacture of cosmetics;
chemical preparations for use in the manufacture of
cosmetics; proteins for use in the manufacture of cosmetics;
chemical ingredient complex used as a component in makeup
and non-medicated skin care preparations
02
Canada balsam; copal; sandarac; shellac; dammar; mordants;
anti-corrosion agents; anti-rust preparations; mastic; gum
resins; wood preservatives; dyes; pigments; coatings
[paints]; printing ink; water-colors [paints];
anti-corrosion greases; non-ferrous metal foil for use in
painting, decorating, printing and art; precious metals in
foil or powder form for use in painting, decorating,
printing and art
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 02. März 2023 | 2023/9 Gaz | CN | Ablehnung |
| 21. Januar 2023 | 2023/4 Gaz | US | Ablehnung |
| 19. Januar 2023 | 2023/3 Gaz | EM | Ablehnung |
| 18. April 2022 | 2022/32 Gaz | JP | Eintragung |
ID: 141679803