SiCrystal

WIPO WIPO 2021

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Die Internationale Marke SiCrystal wurde als Wortmarke am 02.02.2021 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

Markendetails Letztes Update: 04. August 2023

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 1606695
Registernummer 302020110541
Länder Europäische Gemeinschaft Indien Japan Vereinigte Staaten von Amerika (USA) China Russland
Basismarke DE Nr. 30 2020 110 541, 24. September 2020
Anmeldedatum 02. Februar 2021
Ablaufdatum 02. Februar 2031

Markeninhaber

Thurn-und-Taxis-Straße 20
90411 Nürnberg
DE

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

01 Chemical products for industrial and scientific purposes, namely polycrystalline or monocrystalline materials, in particular for use in mechanics, optics and semiconductor technology and in particular for use as gemstones; crystalline semiconductor material; semiconductor single crystals; all aforementioned products based on silicon carbide or on aluminium oxide or on II-VI semiconductors, in particular zinc oxide, zinc sulphide, zinc selenide, magnesium oxide, magnesium sulphide, magnesium selenide, cadmium selenide or cadmium telluride, or on III-V semiconductors, in particular boron nitride, aluminium nitride, gallium nitride, gallium phosphide or gallium arsenide
09 Electronic materials, namely semiconductor materials, in particular in form of wafers, as far as included in this class; semiconductors; semiconductor wafers; wafers for power electronic components; all aforesaid products based on silicon carbide or on aluminium oxide or on II-VI semiconductors, in particular zinc oxide, zinc sulphide, zinc selenide, magnesium oxide, magnesium sulphide, magnesium selenide, cadmium selenide or cadmium telluride, or on III-V semiconductors, in particular boron nitride, aluminium nitride, gallium nitride, gallium phosphide or gallium arsenide
40 Processing of semiconductor materials, semiconductor wafers or semiconductor components; customer-specific contract manufacturing or processing of semiconductor wafers; all aforesaid services for semiconductors based on silicon carbide or aluminium oxide or on II-VI semiconductors, in particular zinc oxide, zinc sulphide, zinc selenide, magnesium oxide, magnesium sulphide, magnesium selenide, cadmium selenide or cadmium telluride, or on III-V semiconductors, in particular boron nitride, aluminium nitride, gallium nitride, gallium phosphide or gallium arsenide
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Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
31. Juli 2023 2023/31 Gaz EM RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
05. November 2022 2022/45 Gaz US RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
22. September 2022 2022/38 Gaz JP RAW: Rule 18ter(2)(i) GP following a provisional refusal
16. August 2022 2022/36 Gaz IN Ablehnung
26. Mai 2022 2022/22 Gaz JP Ablehnung
21. März 2022 2022/12 Gaz CN Ablehnung
06. Dezember 2021 2021/49 Gaz RU Ablehnung
23. November 2021 2022/2 Gaz RAW: Limitation
29. September 2021 2021/39 Gaz US Ablehnung
13. September 2021 2021/38 Gaz EM Ablehnung
31. August 2021 2021/36 Gaz IN Ablehnung
02. Februar 2021 DE Eintragung

ID: 141606695