C

WIPO WIPO 2019

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Die Internationale Marke C wurde als Bildmarke am 17.10.2019 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

Logodesign (Wiener Klassifikation)

#Quadrilateralen #Briefe, die eine besondere Form des Schreibens darstellen #Farben #Quadrilaterale, die einen oder mehrere Buchstaben enthalten #Ein Brief #Zwei vorherrschende Farben

Markendetails Letztes Update: 25. Januar 2023

Markenform Bildmarke
Aktenzeichen 1504160
Registernummer 302019105143
Länder Europäische Gemeinschaft Indien Japan Südkorea Malaysia Singapur Thailand Vereinigte Staaten von Amerika (USA) Schweiz China Russland
Basismarke DE Nr. 30 2019 105 143, 01. Oktober 2019
Anmeldedatum 17. Oktober 2019
Ablaufdatum 17. Oktober 2029

Markeninhaber

Württemberger Straße 31
89143 Blaubeuren
DE

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

07 Machines for processing semiconductors, solar cells, fibers and other substrates; machines for etching semiconductor surfaces; surface treatment machines for semiconductor surfaces, under vacuum (so-called CVD method) or atmospheric or under exposure to plasma, by means of evaporating as well as machines for coating semiconductor surfaces, under vacuum [so-called CVD process] or atmospheric or under exposure to plasma; machinery for transport (atmospheric or subatmospheric or under a predefined gas atmosphere); plasma-and heat radiation-based surface treatment machines; machines for atomic layer deposition (ALD-atomic layer deposition); installations and equipment for thermal processing or manufacturing processes, namely coating furnaces, vacuum soldering machines, chemical vapor deposition (CVD-systems) systems
09 Hardware and software for operating the aforesaid goods
11 Firing furnaces; vacuum furnaces; laminating furnaces; machines for purification of gas and exhaust gases; machines for thermal processing, namely furnaces for the thermal treatment of semiconductors, solar cells, fibers and other substrates and their thermal processing under vacuum; machines for the thermal treatment of surfaces and objects, namely diffusion furnaces, conveyor furnaces, coating furnaces, annealing systems; radiation-based rapid heating systems; installations and equipment for thermal processing or manufacturing processes, namely annealing systems
37 Construction, repair, installation and maintenance services, namely, of machines and machine tools and parts thereof, all for the manufacture and processing of solar cells (turnkey solutions), semiconductors, fibers and raw materials therefor; assembly of semiconductor devices, both atmospheric and subatmospheric
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
23. Januar 2023 2023/4 Gaz Korrektur
17. März 2022 2022/12 Gaz JP RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
28. Februar 2022 2022/12 Gaz IN RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
01. Oktober 2021 2021/40 Gaz US RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
22. Juni 2021 2021/25 Gaz KR RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
07. Mai 2021 2021/20 Gaz TH Ablehnung
29. April 2021 2021/17 Gaz JP Ablehnung
08. Februar 2021 2021/6 Gaz RU RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
22. Dezember 2020 2021/3 Gaz SG RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
11. November 2020 2020/46 Gaz CH Ablehnung
28. Oktober 2020 2020/44 Gaz KR Ablehnung
06. Juli 2020 2020/30 Gaz EM RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
21. Mai 2020 2020/22 Gaz RU Ablehnung
12. Mai 2020 2020/22 Gaz CN Ablehnung
25. Februar 2020 2020/9 Gaz US Ablehnung
24. Januar 2020 2020/5 Gaz SG Ablehnung
10. Januar 2020 2020/4 Gaz EM Ablehnung
06. Januar 2020 2020/4 Gaz IN Ablehnung
17. Oktober 2019 2019/49 Gaz DE Eintragung

ID: 141504160