CPSQ Clean Process for Synthetic Quartz – Infos zur Marke Nr 1382728 (WIPO, 20.09.2017)

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Die Internationale Marke CPSQ Clean Process for Synthetic Quartz wurde als Bildmarke am 20.09.2017 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

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Logodesign (Wiener Klassifikation)

#Segmente oder Sektoren von Kreisen oder Ellipsen #Linien, Bänder #Briefe, die eine besondere Form des Schreibens darstellen #Farben #Segmente von Kreisen oder Ellipsen (außer 26.2.7) #Eine Linie oder ein Band #Gekrümmte Linien oder Bänder (außer A 26.11.13) #Buchstabenreihen in verschiedenen Dimensionen #Blau

Markendetails Letztes Update: 14. Februar 2019

Markenform	Bildmarke
Aktenzeichen	1382728
Länder
Basismarke	Nr. 2017-51104, 13. April 2017

Anmeldedatum	20. September 2017
Ablaufdatum	20. September 2027

Markeninhaber

TOSOH QUARTZ CORPORATION

1435, Tachiyagawa 3-chome,
Yamagata-shi
JP

Markenvertreter

ISHII Yoshikazu c/o Ishii Patent and Trademark Office

Ito Create Koishikawa Building 10th Floor, 20-1, Koishikawa 4-chome, JP

Waren und Dienstleistungen

21 Silica glass, other than for building; silica glass ingots; silica glass tube; silica glass ball; silica glass rod; silica glass for chemical laboratory glassware

40 Custom manufacture of silica glass, other than for building; custom manufacture of silica glass ingots; custom manufacture of silica glass tube; custom manufacture of silica glass ball; custom manufacture of silica glass rod; custom manufacture of silica glass for chemical laboratory glassware

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Markenhistorie

Datum	Belegnummer	Bereich	Eintrag
11. Februar 2019	2019/7 Gaz	KR	RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
19. Dezember 2018	2018/51 Gaz	US	RAW: Rule 18ter(2)(i) GP following a provisional refusal
06. Dezember 2018	2018/49 Gaz	CN	Ablehnung
01. Oktober 2018	2018/40 Gaz	KR	Ablehnung
24. Januar 2018	2018/4 Gaz	US	Ablehnung
20. September 2017	2017/51 Gaz	JP	Eintragung