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Die Internationale Marke RETICLEAN wurde als Wortmarke am 20.09.2016 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 1343026 |
| Länder | 
|
| Basismarke |
Nr. 87166812,
09. September 2016
|
| Anmeldedatum | 20. September 2016 |
| Ablaufdatum | 20. September 2026 |
Markeninhaber
M/S 1269,
3050 Bowers Ave.
US
3050 Bowers Ave.
US
Markenvertreter
1100 Peachtree Street, STE 2800,
M/S: IP Docketing - 22
US
Waren und Dienstleistungen
07
Equipment and machines for the processing and production of
semiconductor substrates, thin films, silicon discs and
wafers, namely, machines for cleaning a surface and
polishing machines for use in polishing semiconductor
substrates, thin films, silicon discs and wafers
09
Equipment and machines for the processing and production of
semiconductor substrates, thin films, silicon discs and
wafers, namely, process monitoring software and
semiconductor measuring equipment in the nature of
diagnostic computers and electronic imaging apparatus for
the measuring and inspection of semiconductor processing and
production
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 25. September 2018 | 2018/39 Gaz | CN | Ablehnung |
| 30. Januar 2018 | 2018/5 Gaz | KR | Ablehnung |
| 26. Oktober 2017 | 2017/43 Gaz | SG | Ablehnung |
| 06. Oktober 2017 | 2017/41 Gaz | EM | Ablehnung |
| 21. September 2017 | 2017/38 Gaz | JP | Ablehnung |
| 20. September 2016 | 2017/16 Gaz | US | Eintragung |
ID: 141343026