Plasmabox

WIPO WIPO 2011

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Die Internationale Marke Plasmabox wurde als Wortmarke am 25.03.2011 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

Markendetails Letztes Update: 10. August 2023

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 1073217
Länder Australien Europäische Gemeinschaft Großbritannien Japan Südkorea Singapur Vereinigte Staaten von Amerika (USA) China Deutschland Spanien Frankreich Italien Liechtenstein Russland
Basismarke CH Nr. 613350, 30. September 2010
Anmeldedatum 25. März 2011
Ablaufdatum 25. März 2031

Markeninhaber

Hauptstrasse 1a
9477 Trübbach
CH

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

07 Machinery and equipment for the plasma assisted manufacture or the plasma treatment of parts such as semiconductor devices, photovoltaic detectors, solar cells, flat panel displays and light emitting devices (such as LEDs and OLEDs), namely vacuum treatment installations for plasma assisted deposition, for plasma treatment and plasma etching, particularly vacuum installations for depositing fine films (particularly PECVD, PACVD); vacuum installations for dry etching, plasma treatment installations, parallel plate plasma reactors
09 Instruments and detectors for electrical, optical and specific characterization of the materials of semiconductor products, photovoltaic detectors, solar cells, flat panel displays and light emitting devices (instruments such as plasma display panels, gas analysers, measurement systems); apparatus for monitoring production processes and quality of semiconductor products, photovoltaic detectors, solar cells, flat panel displays and light emitting devices
37 Installation at factories of machines and equipment for the plasma assisted manufacture or the plasma treatment of parts such as semiconductor devices, photovoltaic detectors, solar cells, flat panel displays and light emitting devices; servicing and repair of such factories
42 Scientific services and research services, namely design, development and analysis of plasma processes, semiconductor products, vacuum treatment installations for plasma assisted production and treatment processes
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
09. August 2023 2023/32 Gaz GB Ablehnung
23. Mai 2023 2023/22 Gaz EM Ablehnung
11. April 2023 2023/17 Gaz Korrektur
30. September 2022 2022/42 Gaz US RAW: Partial Invalidation
25. März 2021 2021/16 Gaz Verlängerung
09. April 2019 2019/27 Gaz US RAW: Partial Invalidation
13. Februar 2014 2014/13 Gaz SG RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
13. August 2012 2012/41 Gaz US RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
15. März 2012 2013/19 Gaz JP RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal
07. März 2012 2012/10 Gaz ES RAW: Rule 18ter(2)(i) GP following a provisional refusal
24. Januar 2012 2012/5 Gaz RU Ablehnung
28. November 2011 2011/48 Gaz CN Ablehnung
11. November 2011 2011/48 Gaz IT Ablehnung
07. November 2011 2011/45 Gaz AU Ablehnung
18. Oktober 2011 2011/42 Gaz ES Ablehnung
13. Oktober 2011 2011/41 Gaz JP Ablehnung
05. Oktober 2011 2011/48 Gaz DE Ablehnung
15. Juli 2011 2011/30 Gaz SG Ablehnung
13. Juni 2011 2011/28 Gaz US Ablehnung
25. März 2011 CH Eintragung

ID: 141073217