C3

WIPO WIPO 2010

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Die Internationale Marke C3 wurde als Wortmarke am 10.06.2010 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.

Markendetails Letztes Update: 15. Juni 2021

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 1063434
Länder China Japan Südkorea Singapur
Basismarke US Nr. 77893271, 14. Dezember 2009
Anmeldedatum 10. Juni 2010
Ablaufdatum 10. Juni 2020

Markeninhaber

4650 Cushing Parkway
Fremont, CA 94538
US

Markenvertreter

One Embarcadero Center, Suite 1020 US

Waren und Dienstleistungen

07 Components of semiconductor manufacturing machines for removing residues and/or materials from semiconductor wafers and drying semiconductor wafers, namely, wet processing chambers, fluid dispensers, brushes, air blowers, pumps, valves, flow controllers, motion controllers, and monitoring sensors, all sold as integral parts of semiconductor manufacturing machines; machines or installations for removing residues and/or materials from semiconductor wafers and drying semiconductor wafers, comprising wet processing chambers, fluid dispensers, brushes, air blowers, pumps, valves, flow controllers, motion controllers, and monitoring sensors, all sold as an integral part of semiconductor manufacturing machines
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
12. Juni 2021 2021/23 Gaz Löschung
26. April 2012 2012/17 Gaz JP Ablehnung
09. März 2012 2012/11 Gaz KR Ablehnung
17. Dezember 2011 2012/9 Gaz SG RAW: Rule 18ter(2)(i) GP following a provisional refusal
19. Oktober 2011 2011/44 Gaz CN Ablehnung
09. August 2011 2011/32 Gaz KR Ablehnung
23. Juni 2011 2011/25 Gaz JP Ablehnung
19. März 2011 2011/12 Gaz SG Ablehnung
10. Juni 2010 2011/3 Gaz US Eintragung

ID: 141063434