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Die US-Marke OASIS CLEAN wurde als Wortmarke am 29.07.2002 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 18.01.2005 im Markenregister eingetragen.
Der aktuelle Status der Marke ist "CANCELLED - SECTION 8".
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 78148521 |
| Registernummer | 2919750 |
| Anmeldedatum | 29. Juli 2002 |
| Veröffentlichungsdatum | 09. Dezember 2003 |
| Eintragungsdatum | 18. Januar 2005 |
Markeninhaber
3050 BOWERS AVENUE
95054 SANTA CLARA
US
95054 SANTA CLARA
US
Markenvertreter
Waren und Dienstleistungen
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Semiconductor wafer processing equipment, operational software, and components, namely-- epitaxial reactors, chemical vapor deposition reactors, physical vapor deposition reactors, plasma etchers, ion implanters, measuring and monitoring tools, wafer cleaning systems, and chemical mechanical polishers; all for the processing and production of semiconductor substrates, thin films, silicon discs and wafers
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ID: 1378148521