HYBRID ATOMIC LAYER CVD

USPTO USPTO 2002 ABANDONED-FAILURE TO RESPOND OR LATE RESPONSE

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Die US-Marke HYBRID ATOMIC LAYER CVD wurde als Wortmarke am 18.06.2002 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet. Der aktuelle Status der Marke ist "ABANDONED-FAILURE TO RESPOND OR LATE RESPONSE".

Markendetails Letztes Update: 20. Mai 2018

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 76422220
Anmeldedatum 18. Juni 2002

Markeninhaber

2800 Bayview Drive
94538 Fremont
US

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

9 Tool for depositing a thin film onto a substrate
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ID: 1376422220