LEEPL CORPORATION Logo (USPTO, 15.08.2000)
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Die US-Marke LEEPL CORPORATION wurde als Wort-Bildmarke am 15.08.2000 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet. Der aktuelle Status der Marke ist "ABANDONED - NO STATEMENT OF USE FILED".
| Markenform | Wort-Bildmarke |
| Aktenzeichen | 76110009 |
| Anmeldedatum | 15. August 2000 |
| Veröffentlichungsdatum | 16. April 2002 |
Markeninhaber
1337-13, Honmachida, Machida-shi
Tokyo
JP
Tokyo
JP
Markenvertreter
Waren und Dienstleistungen
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Semi-conductor manufacturing apparatus, namely, electron beam exposure system comprising machines for use in semiconductor, integrated circuit, electronics and miro-machine industries, electron beam lithography system comprising machines for use in semiconductor, integrated circuit, electronics and miro-machine industries, photo mask manufacturing machines
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Electronic machines/instruments, namely electron beam exposure system comprising devices for use in semiconductor, integrated circuit, electronics and miro-machine industries, electron beam lithography system comprising machines for use in semiconductor, integrated circuit, electronics and miro-machine industries, measuring apparatus/instruments, namely, precision measuring machines and instruments, namely, photo mask inspection machines
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ID: 1376110009