ATOMIC LAYER CVD

USPTO USPTO 2000 ABANDONED-FAILURE TO RESPOND OR LATE RESPONSE

Schützen Sie diese Marke vor Nachahmern!

Mit unserer Markenüberwachung werden Sie automatisch per E-Mail über Nachahmer und Trittbrettfahrer benachrichtigt.

Die US-Marke ATOMIC LAYER CVD wurde als Wortmarke am 10.07.2000 beim Amerikanischen Patent- und Markenamt angemeldet. Der aktuelle Status der Marke ist "ABANDONED-FAILURE TO RESPOND OR LATE RESPONSE".

Markendetails Letztes Update: 02. August 2019

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 76085818
Anmeldedatum 10. Juli 2000

Markeninhaber

Kutojantie 2B
02630 Espoo
FI

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

9 APPARATUS FOR DEPOSITING THIN FILMS ON SUBSTRATES, NAMELY DEPOSITION REACTORS AND COMPONENTS THEREOF
37 Installing, and testing deposition reactors and advising users about the operation of the reactors
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen

ID: 1376085818