ZEISS Logo (EUIPO, 15.03.2024)
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Die Unionsmarke ZEISS wurde als Bildmarke am 15.03.2024 beim Amt der Europäischen Union für Geistiges Eigentum angemeldet.
Sie wurde am 02.10.2024 im Markenregister eingetragen.
Der aktuelle Status der Marke ist "Marke eingetragen (aktive Marke)".
Logodesign (Wiener Klassifikation)
#Quadrate #Ein Viereck #Viereckfiguren mit einer oder mehreren konvexen oder konkaven Seiten, Viereck mit einer Seite gebogen #Vierecke mit anderen Inschriften #Quadrilaterale mit dunklen Flächen oder Teilen von Flächen
| Markenform | Bildmarke |
| Aktenzeichen | 018999521 |
| Anmeldedatum | 15. März 2024 |
| Veröffentlichungsdatum | 25. Juni 2024 |
| Eintragungsdatum | 02. Oktober 2024 |
| Ablaufdatum | 15. März 2034 |
Markeninhaber
Carl-Zeiss-Str. 22
73447 Oberkochen
DE
73447 Oberkochen
DE
Markenvertreter
Carl-Zeiss-Str. 22
73447 Oberkochen
DE
Waren und Dienstleistungen
7
Ausrüstungen für die Mikrolithografie; Maschinen zur Verwendung bei der Herstellung mittels Mikrolithografie, insbesondere bei der Herstellung von elektronischen Bauteilen, integrierten Schaltkreisen, Halbleitern; Universalbefestigungen und Klemmvorrichtungen zur Verwendung mit Dimensionsmessgeräten und -instrumenten; Teile, Bestandteile und Zubehör für alle vorstehend genannten Waren
9
Optische Apparate und Instrumente; Halbleiterobjektive; Apparate und Software für die Metrologie; Elektrische, elektronische und optische Apparate und Instrumente zur Verwendung bei der Herstellung mittels Mikrolithografie, insbesondere von elektronischen Bauteilen, Halbleitern, integrierten Schaltkreisen; Elektrische, elektronische und optische Apparate und Instrumente zur Verwendung in der Mikrolithografie; Software zur Verwendung in den Branchen Elektronik, Mikrolithografie, Halbleiter, integrierte Schaltkreise und integrierte optische Systeme; Software für den Entwurf, zum Testen und Erstellen von fotolithografischen Masken; Halbleiter; Integrierte Schaltkreise; Fotolithografische Masken; Laserlichtquellen zur Verwendung bei der Halbleiterherstellung; Elektronische Bildgebungsplattformen im Bereich Inspektion von Halbleitermaterialien, nämlich Halbleiterscheiben und Reticles; Nach dem Scanverfahren arbeitende Elektronenstrahl-Prüfgeräte; Teile und Zubehör für alle vorgenannten Waren
37
Wartung und Reparatur in Bezug auf Maschinen, Apparate und Instrumente zur Verwendung für die Elektronik- und Mikrolithografieindustrie sowie für die Industriezweige zur Herstellung von Halbleitern, integrierten Schaltkreisen, Domänenmagnetspeicher und integrierten optischen Systemen
41
Bildung und Ausbildung in Bezug auf die Elektronik- und Mikrolithografieindustrie sowie die Industriezweige zur Herstellung von Halbleitern, integrierten Schaltkreisen, Domänenmagnetspeicher und integrierten optischen Systemen; Bildung und Ausbildung in Bezug auf die Elektronik- und Mikrolithografieindustrie sowie die Industriezweige zur Herstellung von Halbleitern, integrierten Schaltkreisen, Domänenmagnetspeicher und integrierten optischen Systemen; Beratung in Bezug auf die vorstehend genannten Leistungen
42
Technische Beratung in Bezug auf Maschinen, Apparate und Instrumente zur Verwendung für Branchen im Bereich Elektronik, Mikrolithografie, Halbleiter, integrierte Schaltkreise, Domänenmagnetspeicher und integrierte optische Systeme; Entwurf, Pflege und Entwicklung von Computersoftware zur Verwendung für die Elektronik- und Mikrolithografieindustrie sowie für die Industriezweige zur Herstellung von Halbleitern, integrierten Schaltkreisen, magnetischen Domänenspeichern und integrierten optischen Systemen sowie für Entwurf, Prüfung und Herstellung von fotolithografischen Masken; Beratung in Bezug auf die vorstehend genannten Leistungen
ID: 11018999521