CCR Technology

DPMA DPMA 1999 Trademark registered

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The German trademark CCR Technology was filed as Word mark on 05/25/1999 at the German Patent and Trademark Office.
It was registered as a trademark on 03/02/2000. The current status of the mark is "Trademark registered".

Trademark Details Last update: December 13, 2023

Trademark form Word mark
File reference 399298894
Register number 39929889
Application date May 25, 1999
Publication date April 6, 2000
Entry date March 2, 2000
Start of opposition period April 6, 2000
End of the opposition period July 6, 2000
Expiration date May 31, 2029

Trademark owner


53619 Rheinbreitbach
DE

Trademark representatives

goods and services

1 4 7 9 10 40 42
Chemische Erzeugnisse: diamantähnlicher Kohlenstoff, Magnetaufzeichnungsträgermaterial, mikroelektronische Bauteile, Metallüberzüge, insbesondere auf Werkzeugen, Instrumenten und Autoteilen, transparente Überzüge auf Glas und Plastik, insbesondere Strichcodierung und Sonnengläser; stickstoffhaltiger amorpher Kohlenstoff und Kohlenstoffnitrid (C3N4), stöchiometrisches Siliciumdioxid (SiO2) unterstöchiometrisches Siliciumdioxid (SiOx, 1, 5 < x < 2), Siliciumnitrid, Siliciumoxinitrid, polykristallines Silicium, polykristalliner Diamant, Zirkoniumdioxid stabilisiert durch Yttriumoxid, Titanlegierungen, insbesondere TiN, TialN und TiCN; Aluminiumverbindungen, insbesondere Al2O3 und AlOx und Aluminiumlegierungen; modifizierte Oberflächen, geätzte Halbleiter, behandelte Polymeroberflächen, Membranen und Sensoren, aroma-, sauerstoff- und wasserdampfdichte Umhüllungen; optische Beschichtungen, insbesondere Laserspiegel, dichroitische Schichten, optische Mehrschichten und Antireflexionsschichten, trübe und hitzebeständige Projektorgläser; Durchsatzmaterial, insbesondere gehärtetes, korrosions- und verschleißbeständiges Material, ultraflache Übergänge, dotierte Kanalstrukturen, Getter, Ätzstopschichten, Hohlräume für lichtemittierende Strukturen; plasmasterilisierte Material, plasmasterilisiertes Verpackungsmaterial, medizinisches Material mit erhöhten oligodynamischen Eigenschaften zur Behandlung von Verbrennungen und anderen Verletzungen, Beschichtungen auf chirurgischen Implantaten und orthopädischen Prothesen mit erhöhter Verträglichkeit und Verschleißbeständigkeit, Polymerüberzüge zur Verbesserung der Verankerung von Enzymen für biochemische Reaktionen; Schmiermittel; insbesondere stickstoffhaltiger amorpher Kohlenstoff und Kohlenstoffnitrid (C3N4), polykristalliner Diamant; Maschinen und Werkzeugmaschinen, soweit in Klasse 7 enthalten, insbesondere zu Ätz- und Dotierzwecken, zur Steuerung der Benetzbarkeit polymerer Oberflächen, Gewebe, Gläser und Papier, zur Ionenimplantation, zur Vakuumbeschichtung und Plasmauntersuchung, zur Erzeugung und Messung von Plasmaionenstrahlen; plasmasterilisierte medizinische Instrumente; Geräte zur Aufzeichnung, Übertragung und Wiedergabe von Ton und Bild; Datenverarbeitungsgeräte und Computer; Magnetaufzeichnungsträger, Balkencodelesegeräte; Flachbildschirme, Magnetaufzeichnungsträger mit diamantähnlicher Kohlenstoffbeschichtung, modifizierten Oberflächen, geätzten Halbleitervorrichtungen mit optischen Beschichtungen, insbesondere Laserspiegel, dichroite Schichten, optische Mehrschichten und hitzebeständige Projektorgläser; Materialbearbeitung: Plasmaverfahren und Oberflächenbehandlung, insbesondere trockenes Ätzen von Halbleiterstrukturen, Reinigen von Oberflächen und Entfernen von Oxiden, Verunreinigungen; chemisches Ätzen, Sputtern, Behandlung polymerer Oberflächen, Steuerung der Benetzbarkeit polymerer Oberflächen, Gewebe, Gläser und Papier; Dotieren, Herstellung ultraflacher Anschlüsse, Dotieren von Kanalstrukturen, Keimbildung für planare selektive Metallbeschichtung und Bildung von mehrschichtigen Gettern von Metallverunreinigungen, Bildung von Getterschichten durch Einleiten von Edelgasen, Wasserstoff, isoelektronischen Elementen (C, Si, Ge) und Dotierspezies (B, P, As), Aufbringen von Silicium auf Isolatoren, Bildung von Ätzstopschichten zur Siliciummikrobearbeitung, Bildung von wasserstoff- und heliuminduzierten Kanälen für lichtimitierende Strukturen; Plasmasterilisation medizinischer Instrumente und medizinischen Materials, Plasmasterilisation von Verpackungsmaterial, Vakkumbeschichtung, insbesondere im Kathodenbogen, Transistoren und Sensoren; Herstellung von Programmen für die Datenverarbeitung; technische Beratung, Durchführen technischer und chemischer Analysen, insbesondere Plasmaionenstrahldiagnostik, wissenschaftliche und industrielle Forschung, Erstellen wissenschaftlicher Fachberichte, Bereitstellen von Informationen im Internet
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Trademark history

Date Document number Area Entry
March 5, 2019 201800166770 4 Extension, Verlaengert
May 6, 2014 201400176379 8b Transfer / Change of address, Abgeschlossen
December 20, 2012 201200416628 8b Transfer / Change of address, Abgeschlossen
August 7, 2009 200800395995 4 Extension, Verlaengert
August 6, 2009 200900271243 RAW: Umklassifizierung, Umklassifizierung nicht notwendig
September 11, 2003 200302918458 Transfer / Change of address, Abgeschlossen
March 2, 2000 200002011246 Registration, Marke eingetragen
March 2, 2000 200002011755 Opposition period, Marke ohne Widerspruch eingetragen

ID: 10399298894