7
Aus Maschinen zur Bearbeitung von Halbleitern bestehende Anlagen, insbesondere für die Bearbeitung von Halbleitern unter Vakuum; aus Vorrichtungen zur Beförderung von Waren bestehende Anlagen für die Beförderung von Halbleitern; aus Maschinen zur Bearbeitung von Halbleitern bestehende Anlagen und Systeme für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern; aus Maschinen zur Bearbeitung von Halbleitern bestehende Anlagen und Systeme zum Ätzen von Halbleiteroberflächen; aus Maschinen zur Bearbeitung von Halbleitern bestehende Anlagen zur Bedampfung von Halbleiteroberflächen, insbesondere unter Vakuum (CVD-Verfahren); aus Maschinen zur Bereitstellung von Halbleitern bestehende Anlagen, nämlich automatische Beschickungsvorrichtungen, automatische Be- und Entladevorrichtungen und Vorrichtungen zum Einsetzen von Halbleitern; aus Maschinen zur Beförderung oder Bearbeitung von photoelektrischen Elementen bestehende Anlagen; aus Maschinen zur Bereitstellung von photoelektrischen Elementen bestehende Anlagen, nämlich automatische Beschickungsvorrichtungen, automatische Be- und Entladevorrichtungen zum Einsetzen von photoelektrischen Elementen; aus Maschinen zur Beförderung oder Bearbeitung von Flachbildschirmen bestehende Anlagen; aus Maschinen zur Bereitstellung von Flachbildschirmen bestehende Anlagen, nämlich automatische Beschickungsvorrichtungen, automatische Be- und Entladevorrichtungen und Vorrichtungen zum Einsetzen von Flachbildschirmen
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Hardware und Software für den Betrieb von Systemen und Anlagen für die thermische Behandlung von Oberflächen und Gegenständen oder für thermische Verfahren zur Modifizierung von Oberflächen, insbesondere von Halbleiteroberflächen wie Diffusionsöfen, Durchlauföfen, Anlagen zur Bedampfung von Halbleiteroberflächen, Einbrennöfen, Vakuumöfen; Hardware und Software für den Betrieb von Systemen und Anlagen zur Reinigung von Gasen und Abgasen, beispielsweise Abgasreinigungsanlagen
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Systeme und Anlagen für thermische Vorbehandlungsprozesse oder Fertigungsprozesse, nämlich Diffusionsöfen, Durchlauföfen, Beschichtungsöfen, Einbrennöfen, Vakuumöfen; aus Abscheidern zur chemischen Gasphasenabscheidung bestehende Anlagen, insbesondere unter Vakuumbedingungen (CVD-Verfahren); Anlagen zur Bearbeitung und Reinigung von Gasen und Abgasen; aus Abzügen und Installationen zum Ableiten von Abgasen bestehende Vorrichtungen zum Abgeben von Abgasen an die Umgebung; Gasfackeln; Abwasserreinigungsanlagen; Abwasserreinigungsapparate; Abwasserbeseitigungsanlagen