developing tomorrow's surface

DPMA DPMA 2000 Akte vernichtet

Schützen Sie diese Marke vor Nachahmern!

Mit unserer Markenüberwachung werden Sie automatisch per E-Mail über Nachahmer und Trittbrettfahrer benachrichtigt.

Die Deutsche Marke developing tomorrow's surface wurde als Wortmarke am 18.05.2000 beim Deutschen Patent- und Markenamt angemeldet.
Sie wurde am 23.10.2000 im Markenregister eingetragen. Der aktuelle Status der Marke ist "Akte vernichtet".

Markendetails Letztes Update: 13. Dezember 2023

Markenform Wortmarke
Aktenzeichen 300379382
Registernummer 30037938
Internationale Marke Nr. IR771403, 06. November 2024
Anmeldedatum 18. Mai 2000
Veröffentlichungsdatum 23. November 2000
Eintragungsdatum 23. Oktober 2000
Beginn Widerspruchsfrist 23. November 2000
Ende Widerspruchsfrist 23. Februar 2001
Ablaufdatum 31. Mai 2010

Markeninhaber


53619 Rheinbreitbach
DE

Markenvertreter

Waren und Dienstleistungen

1 4 7 9 10 37 38 40 42
Chemische Erzeugnisse, nämlich diamantähnlicher Kohlenstoff, Magnetaufzeichnungsträgermaterial, mikroelektronische Bauteile, Metallüberzüge, insbesondere auf Werkzeugen, Instrumenten und Autoteilen, transparente Überzüge auf Glas und Plastik, insbesondere Strichcodierung und Sonnengläser; stickstoffhaltiger amorpher Kohlenstoff und Kohlenstoffnitrid (C3N4), stöchiometrisches Siliciumdioxid (SiO2) unterstöchiometrisches Siliciumdioxid (SiOX, 1, 5 < x < 2), Siliciumnitrid, Siliciumoxinitrid, polykristallines Silicium, polykristalliner Diamant, Zirkoniumdioxid stabilisiert durch Yttriumoxid, Titanlegierungen, insbesondere TiN, TiAlN und TiCN; Aluminiumverbindungen, insbesondere Al2O3 und AlOx und Aluminiumlegierungen; modifizierte Oberflächen, geätzte Halbleiter, behandelte Polymeroberflächen, Membranen und Sensoren, aroma-, sauerstoff- und wasserdampfdichte Umhüllungen; optische Beschichtungen, insbesondere Laserspiegel, dichroitische Schichten, optische Mehrschichten und Antireflexionsschichten, trübe und hitzebeständige Projektorgläser; Durchsatzmaterial, insbesondere gehärtetes, korrosions- und verschleißbeständiges Material, ultraflache Übergänge, dotierte Kanalstrukturen, Getter, Ätzstopschichten, Hohlräume für lichtemittierende Strukturen; plasmasterilisiertes Material; plasmasterilisiertes Verpackungsmaterial, medizinisches Material mit erhöhten oligodynamischen Eigenschaften zur Behandlung von Verbrennungen und anderen Verletzungen, Beschichtungen auf chirurgischen Implantaten und orthopädischen Prothesen mit erhöhter Verträglichkeit und Verschleißbeständigkeit, Polymerüberzüge zur Verbesserung der Verankerung von Enzymen für biochemische Reaktionen; Schmiermittel; insbesondere stickstoffhaltiger amorpher Kohlenstoff und Kohlenstoffnitrid (C3N4), polykristalliner Diamant; Maschinen und Werkzeugmaschinen, nämlich zu Ätz- und Dotierzwecken, zur Steuerung der Benetzbarkeit polymerer Oberflächen, Gewebe, Gläser und Papier, zur Ionenimplantation; Geräte zur Aufzeichnung, Übertragung und Wiedergabe von Ton und Bild; Datenverarbeitungsgeräte und Computer; Magnetaufzeichnungsträger, Balkencodelesegeräte; Flachbildschirme, Magnetaufzeichnungsträger mit diamantähnlicher Kohlenstoffbeschichtung, modifizierten Oberflächen, geätzten Halbleitervorrichtungen mit optischen Beschichtungen, insbesondere Laserspiegel, dichroite Schichten, optische Mehrschichten und hitzebeständige Projektorgläser; Plasmasterilisierte medizinische Instrumente zur Vakuumbeschichtung und Plasmauntersuchung, zur Erzeugung und Messung von Plasmaionenstrahlen; Reinigen von Oberflächen und Entfernen von Oxiden, Verunreinigungen; Bereitstellen von Informationen im Internet; Materialbearbeitung, nämlich Plasmaverfahren und Oberflächenbehandlung, insbesondere trockenes Ätzen von Halbleiterstrukturen, chemisches Ätzen, Sputtern, Behandlung polymerer Oberflächen, Steuerung der Benetzbarkeit polymerer Oberflächen, Gewebe, Gläser und Papier; Dotieren, Herstellung ultraflacher Anschlüsse, Dotieren von Kanalstrukturen, Keimbildung für planare selektive Metallbeschichtung und Bildung von mehrschichtigen Gettern von Metallverunreinigungen, Bildung von Getterschichten durch Einleiten von Edelgasen, Wasserstoff, isoelektronischen Elementen (C, Si, Ge) und Dotierspezies (B, P, As), Aufbringen von Silicium auf Isolatoren, Bildung von Ätzstopschichten zur Siliciummikrobearbeitung, Bildung von wasserstoff- und heliuminduzierten Kanälen für lichtimitierende Strukturen; Plasmasterilisation medizinischer Instrumente und medizinischen Materials, Plasmasterilisation von Verpackungsmaterial, Vakuumbeschichtung, insbesondere im Kathodenbogen, Transistoren und Sensoren; Erstellen von Programmen für die Datenverarbeitung; technische Beratung, Durchführen technischer und chemischer Analysen, wissenschaftliche und industrielle Forschung, Erstellen wissenschaftlicher Fachberichte, Plasmaionenstrahldiagnostik

Markenhistorie

Datum Belegnummer Bereich Eintrag
27. Januar 2011 201100027424 5f Löschung, Marke geloescht
11. September 2003 200302918452 Übertragung / Adressänderung, Abgeschlossen
23. Oktober 2000 200002164515 Eintragung, Marke eingetragen
23. Oktober 2000 200002164821 Widerspruchszeitraum, Marke ohne Widerspruch eingetragen

ID: 10300379382