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Die Internationale Marke LEVEL wurde als Wortmarke am 11.07.2011 bei der Weltorganisation für geistiges Eigentum angemeldet.
| Markenform | Wortmarke |
| Aktenzeichen | 1090159 |
| Länder | 
|
| Basismarke |
Nr. 85353239,
22. Juni 2011
|
| Anmeldedatum | 11. Juli 2011 |
| Ablaufdatum | 11. Juli 2031 |
Markeninhaber
2401 Brewer Drive
Rolla, MO 65401
US
Rolla, MO 65401
US
Markenvertreter
Hovey Williams LLP,
10801 Mastin Blvd, Suite 1000
US
Waren und Dienstleistungen
01
Chemical compositions, namely, self-planarizing materials
used in the microelectronics, photolithography and
semiconductor industries
42
Technical consultancy in relation to the production of
self-planarizing materials used in the microelectronics,
photolithography and semiconductor industries; development
and testing of self-planarizing materials used in the
microelectronics, photolithography and semiconductor
industries; development and testing, through extreme
topography process, of self-planarizing materials used in
the microelectronics, photolithography and semiconductor
industries
Die Bezeichnungen wurden automatisch übersetzt. Übersetzung anzeigen
Markenhistorie
| Datum | Belegnummer | Bereich | Eintrag |
|---|---|---|---|
| 11. Juli 2021 | 2021/28 Gaz | Verlängerung | |
| 22. Mai 2013 | 2013/29 Gaz | US | RAW: Partial Ceasing Effect |
| 01. November 2012 | 2012/44 Gaz | JP | RAW: Rule 18ter(2)(ii) GP following a provisional refusal |
| 25. September 2012 | 2012/40 Gaz | EM | RAW: Rule 18ter(2)(i) GP following a provisional refusal |
| 03. September 2012 | 2012/36 Gaz | KR | Ablehnung |
| 17. August 2012 | 2012/34 Gaz | EM | Ablehnung |
| 29. Mai 2012 | 2012/27 Gaz | RAW: Limitation | |
| 20. März 2012 | 2012/12 Gaz | KR | Ablehnung |
| 15. März 2012 | 2012/11 Gaz | JP | Ablehnung |
| 01. Februar 2012 | 2012/5 Gaz | SG | Ablehnung |
| 11. Juli 2011 | 2011/37 Gaz | US | Eintragung |
| Teilweise Löschung |
ID: 141090159