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The German trademark developing tomorrow's surface was filed as Word mark on 05/18/2000 at the German Patent and Trademark Office.
It was registered as a trademark on 10/23/2000.
The current status of the mark is "File deleted".
| Trademark form | Word mark |
| File reference | 300379382 |
| Register number | 30037938 |
| International trademark | No. IR771403, November 5, 2024 |
| Application date | May 18, 2000 |
| Publication date | November 23, 2000 |
| Entry date | October 23, 2000 |
| Start of opposition period | November 23, 2000 |
| End of the opposition period | February 23, 2001 |
| Expiration date | May 31, 2010 |
Trademark owner
53619 Rheinbreitbach
DE
Trademark representatives
45128 Essen
DE
goods and services
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Chemische Erzeugnisse, nämlich diamantähnlicher Kohlenstoff, Magnetaufzeichnungsträgermaterial, mikroelektronische Bauteile, Metallüberzüge, insbesondere auf Werkzeugen, Instrumenten und Autoteilen, transparente Überzüge auf Glas und Plastik, insbesondere Strichcodierung und Sonnengläser; stickstoffhaltiger amorpher Kohlenstoff und Kohlenstoffnitrid (C3N4), stöchiometrisches Siliciumdioxid (SiO2) unterstöchiometrisches Siliciumdioxid (SiOX, 1, 5 < x < 2), Siliciumnitrid, Siliciumoxinitrid, polykristallines Silicium, polykristalliner Diamant, Zirkoniumdioxid stabilisiert durch Yttriumoxid, Titanlegierungen, insbesondere TiN, TiAlN und TiCN; Aluminiumverbindungen, insbesondere Al2O3 und AlOx und Aluminiumlegierungen; modifizierte Oberflächen, geätzte Halbleiter, behandelte Polymeroberflächen, Membranen und Sensoren, aroma-, sauerstoff- und wasserdampfdichte Umhüllungen; optische Beschichtungen, insbesondere Laserspiegel, dichroitische Schichten, optische Mehrschichten und Antireflexionsschichten, trübe und hitzebeständige Projektorgläser; Durchsatzmaterial, insbesondere gehärtetes, korrosions- und verschleißbeständiges Material, ultraflache Übergänge, dotierte Kanalstrukturen, Getter, Ätzstopschichten, Hohlräume für lichtemittierende Strukturen; plasmasterilisiertes Material; plasmasterilisiertes Verpackungsmaterial, medizinisches Material mit erhöhten oligodynamischen Eigenschaften zur Behandlung von Verbrennungen und anderen Verletzungen, Beschichtungen auf chirurgischen Implantaten und orthopädischen Prothesen mit erhöhter Verträglichkeit und Verschleißbeständigkeit, Polymerüberzüge zur Verbesserung der Verankerung von Enzymen für biochemische Reaktionen; Schmiermittel; insbesondere stickstoffhaltiger amorpher Kohlenstoff und Kohlenstoffnitrid (C3N4), polykristalliner Diamant; Maschinen und Werkzeugmaschinen, nämlich zu Ätz- und Dotierzwecken, zur Steuerung der Benetzbarkeit polymerer Oberflächen, Gewebe, Gläser und Papier, zur Ionenimplantation; Geräte zur Aufzeichnung, Übertragung und Wiedergabe von Ton und Bild; Datenverarbeitungsgeräte und Computer; Magnetaufzeichnungsträger, Balkencodelesegeräte; Flachbildschirme, Magnetaufzeichnungsträger mit diamantähnlicher Kohlenstoffbeschichtung, modifizierten Oberflächen, geätzten Halbleitervorrichtungen mit optischen Beschichtungen, insbesondere Laserspiegel, dichroite Schichten, optische Mehrschichten und hitzebeständige Projektorgläser; Plasmasterilisierte medizinische Instrumente zur Vakuumbeschichtung und Plasmauntersuchung, zur Erzeugung und Messung von Plasmaionenstrahlen; Reinigen von Oberflächen und Entfernen von Oxiden, Verunreinigungen; Bereitstellen von Informationen im Internet; Materialbearbeitung, nämlich Plasmaverfahren und Oberflächenbehandlung, insbesondere trockenes Ätzen von Halbleiterstrukturen, chemisches Ätzen, Sputtern, Behandlung polymerer Oberflächen, Steuerung der Benetzbarkeit polymerer Oberflächen, Gewebe, Gläser und Papier; Dotieren, Herstellung ultraflacher Anschlüsse, Dotieren von Kanalstrukturen, Keimbildung für planare selektive Metallbeschichtung und Bildung von mehrschichtigen Gettern von Metallverunreinigungen, Bildung von Getterschichten durch Einleiten von Edelgasen, Wasserstoff, isoelektronischen Elementen (C, Si, Ge) und Dotierspezies (B, P, As), Aufbringen von Silicium auf Isolatoren, Bildung von Ätzstopschichten zur Siliciummikrobearbeitung, Bildung von wasserstoff- und heliuminduzierten Kanälen für lichtimitierende Strukturen; Plasmasterilisation medizinischer Instrumente und medizinischen Materials, Plasmasterilisation von Verpackungsmaterial, Vakuumbeschichtung, insbesondere im Kathodenbogen, Transistoren und Sensoren; Erstellen von Programmen für die Datenverarbeitung; technische Beratung, Durchführen technischer und chemischer Analysen, wissenschaftliche und industrielle Forschung, Erstellen wissenschaftlicher Fachberichte, Plasmaionenstrahldiagnostik
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Trademark history
| Date | Document number | Area | Entry |
|---|---|---|---|
| January 27, 2011 | 201100027424 | 5f | Deletion, Marke geloescht |
| September 11, 2003 | 200302918452 | Transfer / Change of address, Abgeschlossen | |
| October 23, 2000 | 200002164515 | Registration, Marke eingetragen | |
| October 23, 2000 | 200002164821 | Opposition period, Marke ohne Widerspruch eingetragen |
ID: 10300379382