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The German trademark scia Systems was filed as Word mark on 12/06/2016 at the German Patent and Trademark Office.
It was registered as a trademark on 01/17/2017.
The current status of the mark is "Trademark registered".
| Trademark form | Word mark |
| File reference | 3020161110104 |
| Register number | 302016111010 |
| International trademark | No. IR1371537, March 19, 2025 |
| Application date | December 6, 2016 |
| Publication date | February 17, 2017 |
| Entry date | January 17, 2017 |
| Start of opposition period | February 17, 2017 |
| End of the opposition period | May 17, 2017 |
| Expiration date | December 31, 2026 |
Trademark owner
09116 Chemnitz
DE
Trademark representatives
81675 München
DE
goods and services
7
Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Beschichtung von Substraten mittels chemischer oder physikalischer Gasphasenbescheidung; Vakuumbeschichtungsmaschinen und -anlagen; Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Substraten mittels Ionenstrahl; Anlagen zur Beschichtung und Ätzung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial, mittels Ionenstrahl; Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von optischen Bauelementen, insbesondere von optischen Linsen und optischen Spiegeln; Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von elektronischen Bauelementen, insbesondere von mikroelektronischen Bauelementen, Chips und integrierten Schaltkreisen
9
Elektrische Apparate, nämlich Sputteranlagen, Elektronenstrahlanlagen und Ionenstrahlanlagen; Mess-, Signal-, Kontrollapparate und -instrumente für Maschinen und Anlagen zur Behandlung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Hardware für die Datenverarbeitung für Maschinen und Anlagen zur Behandlung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Computer und Computersoftware für Maschinen und Anlagen zur Behandlung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Ionenstrahlerzeugungsanlagen; Ionenstrahlätzanlagen; Ionenstrahlversorgungsgeräte; Ionisierungsapparate für wissenschaftliche oder Laborzwecke; Software zur Verwendung bei der Verarbeitung von Halbleiter-Wafern; Halbleiterbauelemente, insbesondere von mikroelektronischen Halbleiterbauelementen
37
Installation von Industriemaschinen; Reparatur von Industriemaschinen; Wartung von Industriemaschinen; Installation, Reparatur und Wartung von Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Installation, Reparatur und Wartung von Ionenstrahlanlagen und Elektronenstrahlanlagen; Installation, Reparatur und Wartung von Mess-, Signal-, Kontrollapparaten und -instrumenten für Maschinen und Anlagen zur Behandlung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Installation von Computern; Reparatur von Computern; Wartung von Computern
40
Materialbearbeitung mittels Ionenstrahl; Ätzen, insbesondere unter Verwendung eines Ionenstrahls; Aufbringung von Beschichtungen mittels Vakuumbedampfungsmethoden; Verarbeitung und Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Verarbeitung und Bearbeitung von optischen Bauelementen; Verarbeitung und Bearbeitung von elektronischen Bauelementen
42
Ingenieursdienstleistungen; Entwurf und Entwicklung von Industriemaschinen und -anlagen; Entwurf und Entwicklung von Anlagen, Maschinen und Werkzeugmaschinen zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial; Entwurf und Entwicklung von Ionenstrahlanlagen; Entwicklung industrieller Verfahren; Entwicklung industrieller Verfahren zur Bearbeitung von Substraten, insbesondere von Substraten aus Halbleitermaterial, Silizium, Glas, Metall, Kunststoff oder Polymermaterial
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Trademark history
| Date | Document number | Area | Entry |
|---|---|---|---|
| November 4, 2021 | 202100409823 | 8a | Transfer / Change of address, Abgeschlossen |
| June 17, 2017 | 201700012969 | 2a | Opposition period, Marke ohne Widerspruch eingetragen |
| January 17, 2017 | 201620786287 | 1aaa | Registration, Marke eingetragen |
ID: 103020161110104