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The German trademark HQ-D was filed as Word mark on 03/25/2010 at the German Patent and Trademark Office.
It was registered as a trademark on 05/17/2010.
The current status of the mark is "Trademark registered".
| Trademark form | Word mark |
| File reference | 3020100185074 |
| Register number | 302010018507 |
| Application date | March 25, 2010 |
| Publication date | June 18, 2010 |
| Entry date | May 17, 2010 |
| Start of opposition period | June 18, 2010 |
| End of the opposition period | September 20, 2010 |
| Expiration date | March 31, 2030 |
Trademark owner
89160 Dornstadt
DE
Trademark representatives
80538 München
DE
goods and services
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Maschinen und deren Einzelteile zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern insbesondere unter Vakuum für die Halbleiterchip- und Solarzell-Fertigung; Maschinen für die Beförderung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen für die Oberflächenbearbeitung von Halbleitern; Maschinen und im Wesentlichen daraus bestehende Anlagen zum Ätzen von Halbleiteroberflächen insbesondere unter Vakuum (auch ALD- bzw. CVD-Verfahren); Maschinen zur Beförderung oder Bearbeitung oder Bereitstellung von Flatpanels
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Halbleiter und Verbindungshalbleiter; Hardware und Software für den Betrieb von Geräten für die thermische und Plasmabehandlung von Oberflächen und Gegenständen oder für thermische und Plasmaverfahren zur Modifizierung von Oberflächen, insbesondere von Halbleiteroberflächen; wissenschaftliche, Vermessungs-, elektrische, fotografische, Film-, optische, Wäge-, Mess-, Signal-, Kontroll-, Rettungs- und Unterrichtapparate und -instrumente (soweit in Klasse 9 enthalten), jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und die Rohstoffe hierfür; Apparate und Instrumente zum Leiten, Schalten, Umwandeln, Speichern, Regeln und Kontrollieren von Elektrizität, jeweils insbesondere für die Fertigung und Bearbeitung von Halbleitern und Solarzellen und Rohstoffen hierfür
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Apparate und Geräte und daraus bestehende Anlagen zur thermischen und Plasmabehandlung von Substraten, Halbleitersubstraten, Siliziumscheiben und Wafern für die Halbleiterchip-Fertigung; Schnellaufheiz-Apparate für die Halbleiterbehandlung und -fertigung, insbesondere auf der Basis von Halogen- und Bogenlampen; Epitaxial-Reaktoren
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Aufstellen, Wartung und Reparatur von vorgenannten Waren
40
Materialbearbeitung
42
Technische Entwicklung der vorgenannten Waren
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Trademark history
| Date | Document number | Area | Entry |
|---|---|---|---|
| May 14, 2020 | 201900202825 | 4 | Extension, Verlaengert |
| October 22, 2010 | 201000385856 | 2a | Opposition period, Marke ohne Widerspruch eingetragen |
| May 17, 2010 | 201000323397 | 1aaa | Registration, Marke eingetragen |
ID: 103020100185074